Trimetilalumini (TMAI)
Trimetilalumà (TMAI)
| Sinònims | Trimetilalumini, trimetil d'alumini, trimetànur d'alumini, TMA, TMAL, AlMe3, catalitzador Ziegler-Natta, trimetil-, trimetilalà. |
| Número de cas | 75-24-1 |
| Fórmula química | C6H18Al2 |
| Massa molar | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Aspecte | Líquid incolor |
| Densitat | 0,752 g/cm3 |
| Punt de fusió | 15 ℃ (59 ℉; 288 K) |
| Punt d'ebullició | 125-130 ℃ (257-266 ℉, 398-403 K) |
| Solubilitat en aigua | Reacciona |
| Pressió de vapor | 1,2 kPa (20 ℃), 9,24 kPa (60 ℃) |
| Viscositat | 1,12 cP (20 ℃), 0,9 cP (30 ℃) |
Trimetilalumini (TMAl), com a font metall-orgànica (MO), s'utilitza àmpliament a la indústria dels semiconductors i serveix com a precursor clau per a la deposició de capes atòmiques (ALD), la deposició química de vapor (CVD) i la deposició química de vapor metall-orgànica (MOCVD). S'utilitza per preparar pel·lícules que contenen alumini d'alta puresa, com ara òxid d'alumini i nitrur d'alumini. A més, el TMAl troba una àmplia aplicació com a catalitzador i agent auxiliar en reaccions de síntesi orgànica i polimerització.
El trimetilalumini (TMAI) actua com a precursor per a la deposició d'òxid d'alumini i funciona com a catalitzador de Ziegler-Natta. També és el precursor d'alumini més utilitzat en la producció d'epitàxia en fase de vapor metall-orgànica (MOVPE). A més, el TMAI serveix com a agent de metilació i s'allibera freqüentment dels coets de sonda com a traçador per estudiar els patrons del vent atmosfèric superior.
Especificació empresarial de trimetilalumini al 99,9999%: baix contingut en silici i oxigen (6N TAMI: baix contingut en silici i baix contingut en oxigen)
| Element | Resultat | Especificació | Element | Resultat | Especificació | Element | Resultat | Especificació |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Nota:
Per sobre de tot, valor PPM en pes sobre metall, i ND = no detectat
Mètode d'anàlisi: ICP-OES/ICP-MS
Resultats de FT-RMN (el LOD per a la impuresa orgànica i oxigenada de FT-RMN és de 0,1 ppm):
Garantia d'oxigen <0,2 ppm (mesurada en FT-NMR)
1. No s'han detectat impureses orgàniques
2. No s'han detectat impureses oxigenades
Per a què s'utilitza el trimetilalumini (TMAI)?
Trimetilalumini (TMA)- Aplicacions i usos
El trimetilalumini (TMA) és un compost organoalumini d'ultraalta puresa que serveix com a precursor crític en alguns dels sectors de fabricació més avançats. La seva excepcional reactivitat i pressió de vapor el converteixen en el material preferit per dipositar pel·lícules precises que contenen alumini en electrònica i tecnologies energètiques, així com en un component fonamental en la producció de poliolefines.
El nostre TMA es fabrica amb els estàndards de puresa més estrictes, amb un control rigorós de les impureses elementals, oxigenades i orgàniques per garantir un rendiment òptim en les aplicacions més exigents.
Aplicacions i indústries principals:
1. Fabricació de semiconductors i microelectrònica
En la indústria dels semiconductors, la TMA és indispensable per dipositar pel·lícules primes amb precisió a escala atòmica.
* Dielèctrics d'alta k: s'utilitzen en la deposició de capes atòmiques (ALD) i la deposició química de vapor (CVD) per fer créixer pel·lícules primes uniformes i sense forats d'agulla d'òxid d'alumini (Al₂O₃), que serveixen com a dielèctrics de porta d'alta k en transistors i dispositius de memòria avançats.
* Semiconductors compostos: La font d'alumini preferida en epitàxia metalorgànica en fase de vapor (MOVPE) per al cultiu de semiconductors compostos III-V d'alt rendiment. Aquests materials són essencials per a:
* Electrònica d'alta freqüència: (per exemple, AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelectrònica: (per exemple, AlGaN, AlInGaN)
2. Energia neta i fotovoltaica
TMA permet una major eficiència i durabilitat en les tecnologies d'energia solar.
* Capes de passivació superficial: Dipositades mitjançant ALD o CVD millorada per plasma (PECVD), les pel·lícules d'òxid d'alumini (Al₂O₃) de TMA proporcionen una passivació superficial excepcional per a les cèl·lules solars de silici cristal·lí. Això redueix dràsticament la recombinació de portadors de càrrega, la qual cosa comporta guanys significatius en l'eficiència de conversió cel·lular i l'estabilitat a llarg termini.
3. Il·luminació i pantalla avançades (LED)
La producció de LED d'alta brillantor i eficiència energètica depèn de TMA d'alta puresa.
* Epitaxia LED: Serveix com a precursor d'alumini en els reactors MOVPE per fer créixer les capes actives (per exemple, AlGaN) en LED blaus, verds i ultraviolats.
* Passivació de dispositius: s'utilitza per dipositar pel·lícules protectores d'òxid d'alumini o nitrur d'alumini que milloren l'eficiència d'extracció òptica i prolonguen la vida útil dels dispositius LED.
4. Catàlisi industrial i producció de polímers
La importància industrial del TMA rau en el seu paper en la catàlisi.
* Catàlisi de poliolefines: És el principal material de partida per a la síntesi de metilaluminoxà (MAO), un cocatalitzador crucial en els sistemes catalitzadors de Ziegler-Natta i metal·locens. Aquests sistemes produeixen la gran majoria dels plàstics de polietilè i polipropilè del món.
Característiques i beneficis principals:
* Puresa ultraalta: meticulosament controlada per minimitzar les impureses que degraden el rendiment electrònic i l'activitat catalítica.
* Precursor superior: ofereix una excel·lent volatilitat, estabilitat tèrmica i característiques de descomposició neta per a la deposició de pel·lícules d'alta qualitat.
* Estàndard de la indústria: La font d'alumini establerta i de confiança per a processos de MOVPE, ALD i CVD a les instal·lacions de producció i R+D globals.
* Base per a plàstics: una matèria primera clau que permet la producció de polímers de poliolefines versàtils i essencials.
Avís: El trimetilalumini és un material pirofòric i sensible a la humitat que requereix protocols de manipulació i seguretat especialitzats. La informació proporcionada és amb finalitats descriptives. És responsabilitat de l'usuari manipular aquest material d'acord amb totes les directrius de seguretat aplicables i determinar la seva idoneïtat per a una aplicació específica.
