Trimetilaluminium (TMAI)
Trimetilalumane (TMAI)
| Sinonim | Trimetilaluminium, Aluminium Trimetil, Aluminium Trimethanida, TMA, TMAL, AlMe3, Katalis Ziegler-Natta, Trimetil-, Trimetilalan. |
| Nomer Cas | 75-24-1 |
| Formula kimia | C6H18Al2 |
| Massa molar | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Penampilan | Cairan tanpa warna |
| Kapadhetan | 0,752 g/cm3 |
| Titik leleh | 15℃ (59℉; 288K) |
| Titik didih | 125--130℃ (257--266 ℉, 398--403K) |
| Kelarutan ing banyu | Reaksi |
| Tekanan uap | 1,2 kPa (20 ℃), 9,24 kPa (60 ℃) |
| Viskositas | 1,12 cP (20 ℃), 0,9 cP (30 ℃) |
Trimetilaluminium (TMAl), minangka sumber logam-organik (MO), digunakake sacara wiyar ing industri semikonduktor lan dadi prekursor utama kanggo deposisi lapisan atom (ALD), deposisi uap kimia (CVD), lan deposisi uap kimia logam-organik (MOCVD). Iki digunakake kanggo nyiyapake film sing ngemot aluminium kanthi kemurnian dhuwur, kayata aluminium oksida lan aluminium nitrida. Kajaba iku, TMAl nemokake aplikasi ekstensif minangka katalis lan agen bantu ing reaksi sintesis organik lan polimerisasi.
Trimetilaluminium (TMAI) tumindak minangka prekursor kanggo deposisi aluminium oksida lan fungsine minangka katalis Ziegler-Natta. Iki uga minangka prekursor aluminium sing paling umum digunakake ing produksi epitaksi fase uap logam-organik (MOVPE). Salajengipun, TMAI tumindak minangka agen metilasi lan asring dirilis saka roket sounding minangka pelacak kanggo nyinaoni pola angin atmosfer ndhuwur.
Spesifikasi perusahaan saka 99,9999% Trimetilaluminium - Isi silikon lan oksigen rendah (6N TAMI-Low Si lan Low Ox)
| Unsur | Asil | Spesifikasi | Unsur | Asil | Spesifikasi | Unsur | Asil | Spesifikasi |
| Ag | ND | <0.03 | Cr | ND | <0.02 | S | ND | <0.05 |
| As | ND | <0.03 | Cu | ND | <0.02 | Sb | ND | <0.05 |
| Au | ND | <0.02 | Fe | ND | <0.04 | Si | ND | ≤0.003 |
| B | ND | <0.03 | Ge | ND | <0.05 | Sn | ND | <0.05 |
| Ba | ND | <0.02 | Hg | ND | <0.03 | Sr | ND | <0.03 |
| Be | ND | <0.02 | La | ND | <0.02 | Ti | ND | <0.05 |
| Bi | ND | <0.03 | Mg | ND | <0.02 | V | ND | <0.03 |
| Ca | ND | <0.03 | Mn | ND | <0.03 | Zn | ND | <0.05 |
| Cd | ND | <0.02 | Ni | ND | <0.03 | |||
| Co | ND | <0.02 | Pb | ND | <0.03 |
Cathetan:
Ndhuwur kabeh, nilai PPM miturut bobot ing logam, lan ND = ora dideteksi
Metode Analisis: ICP-OES/ICP-MS
Asil FT-NMR (LOD kanggo pengotor organik lan oksigen FT-NMR yaiku 0.1ppm):
Jaminan oksigen <0.2 ppm (Diukur ing FT-NMR)
1. Ora ana rereged organik sing dideteksi
2. Ora ana rereged sing ngandhut oksigen sing dideteksi
Trimetilaluminium (TMAI) digunakake kanggo apa?
Trimetilaluminium (TMA)- Aplikasi lan Panggunaan
Trimetilaluminium (TMA) minangka senyawa organoaluminium kanthi kemurnian ultra-tinggi sing dadi prekursor penting ing sawetara sektor manufaktur paling maju. Reaktivitas lan tekanan uap sing luar biasa ndadekake bahan iki dadi pilihan kanggo nyimpen film sing ngandhut aluminium sing presisi ing teknologi elektronik lan energi, uga minangka komponen dhasar ing produksi poliolefin.
TMA kita diprodhuksi miturut standar kemurnian sing paling ketat, kanthi kontrol sing ketat tumrap pengotor unsur, oksigen, lan organik kanggo njamin kinerja optimal ing aplikasi sing paling nuntut.
Aplikasi Utama lan Industri:
1. Pabrikasi Semikonduktor & Mikroelektronika
Ing industri semikonduktor, TMA penting banget kanggo nyimpen film tipis kanthi presisi skala atom.
* Dielektrik k-dhuwur: Digunakake ing Deposisi Lapisan Atom (ALD) lan Deposisi Uap Kimia (CVD) kanggo nuwuhake film tipis aluminium oksida (Al₂O₃) sing seragam lan bebas bolongan jarum, sing dadi dielektrik gerbang k-dhuwur ing transistor lan piranti memori canggih.
* Semikonduktor Senyawa: Sumber aluminium sing disenengi ing Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE) kanggo ngembangake semikonduktor senyawa III-V kinerja dhuwur. Bahan-bahan iki penting kanggo:
* Elektronika Frekuensi Tinggi: (contone, AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelektronika: (contone, AlGaN, AlInGaN)
2. Energi Bersih & Fotovoltaik
TMA mbisakake efisiensi lan daya tahan sing luwih dhuwur ing teknologi energi surya.
* Lapisan Pasivasi Permukaan: Didepositake liwat ALD utawa Plasma-Enhanced CVD (PECVD), film aluminium oksida (Al₂O₃) saka TMA nyedhiyakake pasivasi permukaan sing luar biasa kanggo sel surya silikon kristal. Iki nyuda rekombinasi pembawa muatan kanthi drastis, sing ndadékaké peningkatan efisiensi konversi sel lan stabilitas jangka panjang sing signifikan.
3. Lampu & Tampilan Canggih (LED)
Produksi LED kanthi padhange dhuwur lan hemat energi gumantung marang TMA kanthi kemurnian dhuwur.
* Epitaksi LED: Berfungsi minangka prekursor aluminium ing reaktor MOVPE kanggo nuwuhake lapisan aktif (kayata, AlGaN) ing LED biru, ijo, lan ultraviolet.
* Pasivasi Piranti: Digunakake kanggo nyimpen film aluminium oksida utawa aluminium nitrida protèktif sing nambah efisiensi ekstraksi optik lan ndawakake umur operasional piranti LED.
4. Katalisis Industri & Produksi Polimer
Pentingnya industri TMA dumunung ing perané ing katalisis.
* Katalisis Poliolefin: Iki minangka bahan wiwitan utama kanggo sintesis Metilaluminoksan (MAO), ko-katalis penting ing sistem katalis Ziegler-Natta lan metalosena. Sistem iki ngasilake sebagian besar plastik polietilen lan polipropilen ing donya.
Karakteristik & Manfaat Utama:
* Kemurnian Ultra-Dhuwur: Dikontrol kanthi teliti kanggo nyuda rereged sing ngrusak kinerja elektronik lan aktivitas katalitik.
* Prekursor Unggul: Nawakake volatilitas sing apik banget, stabilitas termal, lan karakteristik dekomposisi sing resik kanggo deposisi film berkualitas tinggi.
* Standar Industri: Sumber aluminium sing wis mapan lan dipercaya kanggo proses MOVPE, ALD, lan CVD ing fasilitas R&D lan produksi global.
* Pondasi kanggo Plastik: Bahan mentah utama sing nggampangake produksi polimer poliolefin sing serbaguna lan penting.
Penafian: Trimetilaluminium minangka bahan piroforik lan sensitif marang kelembapan sing mbutuhake penanganan khusus lan protokol keamanan. Informasi sing diwenehake mung kanggo tujuan deskriptif. Pangguna tanggung jawab kanggo nangani bahan iki miturut kabeh pandhuan keamanan sing ditrapake lan kanggo nemtokake kesesuaian kanggo aplikasi tartamtu.
