Trimetilalluminio (TMAI)
Trimetilallumina (TMAI)
| Siciliano | Trimetilalluminio, Trimetilalluminio, Trimetanuro di alluminio, TMA, TMAL, AlMe3, Catalizzatore Ziegler-Natta, Trimetil-, Trimetilalano. |
| Numero CAS | 75-24-1 |
| Formula chimica | C6H18Al2 |
| Massa molare | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Aspetto | liquido incolore |
| Densità | 0,752 g/cm³ |
| Punto di fusione | 15℃ (59 ℉; 288K) |
| Punto di ebollizione | 125-130℃ (257-266 ℉, 398-403K) |
| Solubilità in acqua | Reagisce |
| pressione del vapore | 1,2 kPa (20℃), 9,24 kPa (60℃) |
| Viscosità | 1,12 cP (20℃), 0,9 cP (30℃) |
Trimetilalluminio (TMAl)Il TMAl, in quanto fonte metallo-organica (MO), è ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori e funge da precursore chiave per la deposizione di strati atomici (ALD), la deposizione chimica da fase vapore (CVD) e la deposizione chimica da fase vapore metallo-organica (MOCVD). Viene impiegato per preparare film contenenti alluminio ad elevata purezza, come l'ossido di alluminio e il nitruro di alluminio. Inoltre, il TMAl trova ampia applicazione come catalizzatore e agente ausiliario nelle reazioni di sintesi organica e polimerizzazione.
Il trimetilalluminio (TMAI) agisce come precursore per la deposizione di ossido di alluminio e funziona come catalizzatore di Ziegler-Natta. È inoltre il precursore di alluminio più comunemente utilizzato nella produzione di epitassia in fase vapore metallorganica (MOVPE). Il TMAI funge anche da agente metilante e viene spesso rilasciato dai razzi sonda come tracciante per lo studio dei modelli di vento nell'alta atmosfera.
Specifiche aziendali per trimetilalluminio al 99,9999% - Basso contenuto di silicio e ossigeno (6N TAMI - Basso Si e Basso Ox)
| Elemento | Risultato | Specifiche | Elemento | Risultato | Specifiche | Elemento | Risultato | Specifiche |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Nota:
Il valore sopra indicato è PPM in peso sul metallo, e ND = non rilevato.
Metodo di analisi: ICP-OES/ICP-MS
Risultati FT-NMR (limite di rilevabilità per impurità organiche e ossigenate FT-NMR: 0,1 ppm):
Garanzia di ossigeno <0,2 ppm (misurata tramite FT-NMR)
1. Nessuna impurità organica rilevata
2. Nessuna impurità ossigenata rilevata
A cosa serve il trimetilalluminio (TMAI)?
Trimetilalluminio (TMA)- Applicazioni e utilizzi
Il trimetilalluminio (TMA) è un composto organoalluminico ad altissima purezza che funge da precursore fondamentale in alcuni dei settori manifatturieri più avanzati. La sua eccezionale reattività e pressione di vapore lo rendono il materiale di elezione per la deposizione di film sottili di alluminio di precisione nelle tecnologie elettroniche ed energetiche, nonché un componente fondamentale nella produzione di poliolefine.
Il nostro TMA è prodotto secondo i più rigorosi standard di purezza, con un controllo scrupoloso delle impurità elementari, ossigenate e organiche per garantire prestazioni ottimali nelle vostre applicazioni più esigenti.
Principali applicazioni e settori industriali:
1. Fabbricazione di semiconduttori e microelettronica
Nell'industria dei semiconduttori, la tecnica TMA è indispensabile per depositare film sottili con precisione a livello atomico.
* Dielettrici ad alta costante dielettrica (high-k): utilizzati nella deposizione di strati atomici (ALD) e nella deposizione chimica da fase vapore (CVD) per far crescere film sottili uniformi e privi di difetti di ossido di alluminio (Al₂O₃), che fungono da dielettrici di gate ad alta costante dielettrica in transistor e dispositivi di memoria avanzati.
* Semiconduttori composti: La fonte di alluminio preferita nell'epitassia in fase vapore metallorganica (MOVPE) per la crescita di semiconduttori composti III-V ad alte prestazioni. Questi materiali sono essenziali per:
* Elettronica ad alta frequenza: (ad esempio, AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelettronica: (ad esempio, AlGaN, AlInGaN)
2. Energie pulite e fotovoltaico
La tecnologia TMA consente di ottenere maggiore efficienza e durata nelle tecnologie per l'energia solare.
* Strati di passivazione superficiale: depositati tramite ALD o CVD potenziato al plasma (PECVD), i film di ossido di alluminio (Al₂O₃) di TMA forniscono un'eccellente passivazione superficiale per le celle solari in silicio cristallino. Ciò riduce drasticamente la ricombinazione dei portatori di carica, portando a significativi miglioramenti nell'efficienza di conversione della cella e nella stabilità a lungo termine.
3. Illuminazione e display avanzati (LED)
La produzione di LED ad alta luminosità ed efficienza energetica si basa sull'utilizzo di TMA ad elevata purezza.
* Epitassia LED: Funge da precursore di alluminio nei reattori MOVPE per far crescere gli strati attivi (ad esempio, AlGaN) nei LED blu, verdi e ultravioletti.
* Passivazione del dispositivo: Utilizzata per depositare pellicole protettive di ossido di alluminio o nitruro di alluminio che migliorano l'efficienza di estrazione ottica e prolungano la durata operativa dei dispositivi LED.
4. Catalisi industriale e produzione di polimeri
L'importanza industriale del TMA risiede nel suo ruolo nella catalisi.
* Catalisi delle poliolefine: è il principale materiale di partenza per la sintesi del metilalluminossano (MAO), un co-catalizzatore cruciale nei sistemi catalitici Ziegler-Natta e metallocenici. Questi sistemi producono la stragrande maggioranza delle plastiche di polietilene e polipropilene a livello mondiale.
Caratteristiche e vantaggi principali:
* Purezza ultraelevata: controllo meticoloso per ridurre al minimo le impurità che degradano le prestazioni elettroniche e l'attività catalitica.
* Precursore superiore: offre eccellente volatilità, stabilità termica e caratteristiche di decomposizione pulita per la deposizione di film di alta qualità.
* Standard di settore: la fonte di alluminio consolidata e affidabile per i processi MOVPE, ALD e CVD in impianti di ricerca e sviluppo e di produzione a livello globale.
* Fondamento per le materie plastiche: una materia prima fondamentale che consente la produzione di polimeri poliolefinici versatili ed essenziali.
Avvertenza: Il trimetilalluminio è un materiale piroforico e sensibile all'umidità che richiede una manipolazione e protocolli di sicurezza specifici. Le informazioni fornite hanno scopo puramente descrittivo. È responsabilità dell'utente maneggiare questo materiale in conformità a tutte le norme di sicurezza applicabili e determinarne l'idoneità per una specifica applicazione.
