Trimetil-alumínium (TMAI)
Trimetil-alumán (TMAI)
| Szinonimák | Trimetil-alumínium, alumínium-trimetil, alumínium-trimetanid, TMA, TMAL, AlMe3, Ziegler-Natta katalizátor, trimetil-, trimetilalán. |
| Cas-szám | 75-24-1 |
| Kémiai képlet | C6H18Al2 |
| Moláris tömeg | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Megjelenés | Színtelen folyadék |
| Sűrűség | 0,752 g/cm3 |
| Olvadáspont | 15 ℃ (59 ℉; 288 K) |
| Forráspont | 125–130 ℃ (257–266 ℉, 398–403 K) |
| Oldhatóság vízben | Reagál |
| Gőznyomás | 1,2 kPa (20 ℃), 9,24 kPa (60 ℃) |
| Viszkozitás | 1,12 cP (20 ℃), 0,9 cP (30 ℃) |
Trimetil-alumínium (TMAl)A TMAl-t, mint fémorganikus (MO) forrást, széles körben használják a félvezetőiparban, és kulcsfontosságú prekurzorként szolgál az atomréteg-leválasztáshoz (ALD), a kémiai gőzfázisú leválasztáshoz (CVD) és a fémorganikus kémiai gőzfázisú leválasztáshoz (MOCVD). Nagy tisztaságú alumíniumtartalmú filmek, például alumínium-oxid és alumínium-nitrid előállítására használják. Ezenkívül a TMAl széles körben alkalmazható katalizátorként és segédanyagként szerves szintézisekben és polimerizációs reakciókban.
A trimetil-alumínium (TMAI) prekurzorként működik az alumínium-oxid lerakódásakor, és Ziegler-Natta katalizátorként is funkcionál. Ez a leggyakrabban használt alumínium prekurzor a fémorganikus gőzfázisú epitaxia (MOVPE) előállításában is. Továbbá a TMAI metilezőszerként szolgál, és gyakran szabadul fel rakétaszondákból nyomjelzőként a felső légköri szélminták vizsgálatához.
99,9999%-os trimetil-alumínium vállalati specifikációja - Alacsony szilícium- és alacsony oxigéntartalom (6N TAMI - Alacsony Si- és alacsony Ox-tartalom)
| Elem | Eredmény | Specifikáció | Elem | Eredmény | Specifikáció | Elem | Eredmény | Specifikáció |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Jegyzet:
Mindenekelőtt PPM érték súly szerint fémen, és ND = nem detektálható
Elemzési módszer: ICP-OES/ICP-MS
FT-NMR eredmények (az FT-NMR szerves és oxigéntartalmú szennyeződéseinek kimutatási határa (LOD) 0,1 ppm):
Oxigéngarancia <0,2 ppm (FT-NMR-ben mérve)
1. Nem észleltek szerves szennyeződéseket
2. Nem észleltek oxigéntartalmú szennyeződéseket
Mire használják a trimetil-alumíniumot (TMAI)?
Trimetil-alumínium (TMA)- Alkalmazások és felhasználások
A trimetil-alumínium (TMA) egy ultra-nagy tisztaságú szerves alumíniumvegyület, amely kritikus prekurzorként szolgál a legfejlettebb gyártási ágazatok némelyikében. Kivételes reakcióképessége és gőznyomása teszi az elsődleges anyaggá a precíz alumíniumtartalmú filmek leválasztásához az elektronikában és az energetikai technológiákban, valamint alapvető fontosságú a poliolefingyártásban.
TMA-nkat a legszigorúbb tisztasági szabványok szerint gyártjuk, az elemi, oxigéntartalmú és szerves szennyeződések szigorú ellenőrzése mellett, hogy a legigényesebb alkalmazásaiban is optimális teljesítményt biztosítsunk.
Elsődleges alkalmazások és iparágak:
1. Félvezető és mikroelektronikai gyártás
A félvezetőiparban a TMA nélkülözhetetlen a vékonyrétegek atomi méretű pontosságú leválasztásához.
* Nagy k dielektrikumok: Atomi rétegleválasztásnál (ALD) és kémiai gőzfázisú leválasztásnál (CVD) használják egyenletes, lyukmentes vékony alumínium-oxid (Al₂O₃) filmek növesztésére, amelyek nagy k dielektrikumként szolgálnak fejlett tranzisztorokban és memóriaeszközökben.
* Összetett félvezetők: Az előnyben részesített alumíniumforrás a fémorganikus gőzfázisú epitaxiában (MOVPE) nagy teljesítményű III-V összetett félvezetők növesztéséhez. Ezek az anyagok elengedhetetlenek a következőkhöz:
* Nagyfrekvenciás elektronika: (pl. AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelektronika: (pl. AlGaN, AlInGaN)
2. Tiszta energia és fotovoltaikus rendszerek
A TMA nagyobb hatékonyságot és tartósságot tesz lehetővé a napenergia-technológiákban.
* Felületi passziváló rétegek: Az ALD vagy plazma-erősítésű CVD (PECVD) eljárással leválasztott alumínium-oxid (Al₂O₃) filmek a TMA technológiával kiváló felületi passzivációt biztosítanak a kristályos szilícium napelemek számára. Ez drasztikusan csökkenti a töltéshordozók rekombinációját, ami jelentős növekedést eredményez a cellakonverzió hatékonyságában és a hosszú távú stabilitásban.
3. Fejlett világítás és kijelző (LED)
A nagy fényerejű és energiatakarékos LED-ek gyártása nagy tisztaságú TMA-ra támaszkodik.
* LED-epitaxia: Alumínium prekurzorként szolgál a MOVPE reaktorokban az aktív rétegek (pl. AlGaN) növesztéséhez kék, zöld és ultraibolya LED-ekben.
* Eszközpassziválás: Védő alumínium-oxid vagy alumínium-nitrid filmek lerakódására használják, amelyek fokozzák az optikai extrakció hatékonyságát és meghosszabbítják a LED-eszközök élettartamát.
4. Ipari katalízis és polimergyártás
A TMA ipari jelentősége a katalízisben betöltött szerepében rejlik.
* Poliolefin katalízis: Ez a metil-aluminoxán (MAO) szintézisének elsődleges kiindulási anyaga, amely kulcsfontosságú kokatalizátor a Ziegler-Natta és metallocén katalizátorrendszerekben. Ezek a rendszerek állítják elő a világ polietilén és polipropilén műanyagjainak túlnyomó többségét.
Főbb jellemzők és előnyök:
* Ultra nagy tisztaságú: Gondosan ellenőrzött, hogy minimalizálja az elektronikus teljesítményt és a katalitikus aktivitást rontó szennyeződéseket.
* Kiváló prekurzor: Kiváló illékonyságot, hőstabilitást és tiszta bomlási tulajdonságokat kínál a kiváló minőségű filmlerakódáshoz.
* Iparági szabvány: A MOVPE, ALD és CVD eljárások elismert és megbízható alumíniumforrása a globális K+F és gyártóüzemekben.
* Műanyag Alapítvány: Kulcsfontosságú nyersanyag, amely lehetővé teszi a sokoldalú és nélkülözhetetlen poliolefin polimerek előállítását.
Jogi nyilatkozat: A trimetil-alumínium egy piroforos és nedvességre érzékeny anyag, amely speciális kezelést és biztonsági protokollokat igényel. A megadott információk leíró jellegűek. A felhasználó felelőssége, hogy ezt az anyagot az összes vonatkozó biztonsági irányelvnek megfelelően kezelje, és meghatározza, hogy alkalmas-e egy adott alkalmazásra.
