Trimetilalüminyum (TMAI)
Trimetilalümin (TMAI)
| Eş anlamlılar | Trimetilalüminyum, Alüminyum Trimetil, Alüminyum Trimetanür, TMA, TMAL, AlMe3, Ziegler-Natta Katalizörü, Trimetil-, Trimetilalan. |
| CAS Numarası | 75-24-1 |
| Kimyasal formül | C6H18Al2 |
| Molar kütle | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Dış görünüş | Renksiz sıvı |
| Yoğunluk | 0,752 g/cm³ |
| Erime noktası | 15℃ (59 ℉; 288K) |
| Kaynama noktası | 125--130℃ (257--266 ℉, 398--403K) |
| Suda çözünürlük | Tepkiler |
| Buhar basıncı | 1,2 kPa (20°C), 9,24 kPa (60°C) |
| Viskozite | 1,12 cP (20°C), 0,9 cP (30°C) |
Trimetilalüminyum (TMAl)Metal-organik (MO) bir kaynak olarak TMAl, yarı iletken endüstrisinde yaygın olarak kullanılmaktadır ve atomik katman biriktirme (ALD), kimyasal buhar biriktirme (CVD) ve metal-organik kimyasal buhar biriktirme (MOCVD) için önemli bir öncü madde görevi görmektedir. Alüminyum oksit ve alüminyum nitrür gibi yüksek saflıkta alüminyum içeren filmlerin hazırlanmasında kullanılır. Ayrıca, TMAl, organik sentez ve polimerizasyon reaksiyonlarında katalizör ve yardımcı madde olarak geniş uygulama alanı bulmaktadır.
Trimetilalüminyum (TMAI), alüminyum oksit çökelmesi için öncü madde görevi görür ve Ziegler-Natta katalizörü olarak işlev görür. Ayrıca, metal-organik buhar fazlı epitaksi (MOVPE) üretiminde en yaygın kullanılan alüminyum öncü maddesidir. Dahası, TMAI bir metilasyon ajanı olarak görev yapar ve sıklıkla üst atmosfer rüzgar modellerini incelemek için izleyici madde olarak sondaj roketlerinden salınır.
%99,9999 saflıkta Trimetilalüminyum - Düşük silikon ve düşük oksijen içeriği (6N TAMI-Low Si and Low Ox) kurumsal spesifikasyonu.
| Element | Sonuç | Özellikler | Element | Sonuç | Özellikler | Element | Sonuç | Özellikler |
| Ag | ND | <0.03 | Cr | ND | <0.02 | S | ND | <0.05 |
| As | ND | <0.03 | Cu | ND | <0.02 | Sb | ND | <0.05 |
| Au | ND | <0.02 | Fe | ND | <0.04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0.03 | Ge | ND | <0.05 | Sn | ND | <0.05 |
| Ba | ND | <0.02 | Hg | ND | <0.03 | Sr | ND | <0.03 |
| Be | ND | <0.02 | La | ND | <0.02 | Ti | ND | <0.05 |
| Bi | ND | <0.03 | Mg | ND | <0.02 | V | ND | <0.03 |
| Ca | ND | <0.03 | Mn | ND | <0.03 | Zn | ND | <0.05 |
| Cd | ND | <0.02 | Ni | ND | <0.03 | |||
| Co | ND | <0.02 | Pb | ND | <0.03 |
Not:
En üstteki değer, metal üzerinde ağırlıkça PPM cinsindendir ve ND = tespit edilmedi.
Analiz Yöntemi: ICP-OES/ICP-MS
FT-NMR sonuçları (FT-NMR organik ve oksijenli safsızlık için tespit limiti 0,1 ppm'dir):
Oksijen garantisi <0,2 ppm (FT-NMR ile ölçülmüştür)
1. Organik safsızlık tespit edilmedi.
2. Oksijenli safsızlık tespit edilmedi.
Trimetilalüminyum (TMAI) ne için kullanılır?
Trimetilalüminyum (TMA)- Uygulamalar ve Kullanımlar
Trimetilalüminyum (TMA), en gelişmiş üretim sektörlerinden bazılarında kritik bir öncü madde görevi gören ultra yüksek saflıkta bir organoalüminyum bileşiğidir. Olağanüstü reaktivitesi ve buhar basıncı, onu elektronik ve enerji teknolojilerinde hassas alüminyum içeren filmlerin biriktirilmesi için tercih edilen malzeme ve poliolefin üretiminde temel bir bileşen haline getirmektedir.
TMA ürünümüz, en zorlu uygulamalarınızda optimum performans sağlamak için elementel, oksijenli ve organik safsızlıklar üzerinde titiz kontrollerle, en katı saflık standartlarına göre üretilmektedir.
Başlıca Uygulama Alanları ve Sektörler:
1. Yarı İletken ve Mikroelektronik Üretimi
Yarı iletken endüstrisinde, TMA, atomik ölçekte hassasiyetle ince filmlerin biriktirilmesi için vazgeçilmezdir.
* Yüksek k dielektrikler: Gelişmiş transistörlerde ve bellek cihazlarında yüksek k kapı dielektriği görevi gören, düzgün, deliksiz ince alüminyum oksit (Al₂O₃) filmlerinin büyütülmesi için Atomik Katman Biriktirme (ALD) ve Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) yöntemlerinde kullanılır.
* Bileşik Yarı İletkenler: Yüksek performanslı III-V bileşik yarı iletkenlerin yetiştirilmesi için Metalorganik Buhar Fazlı Epitaksi (MOVPE) yönteminde tercih edilen alüminyum kaynağıdır. Bu malzemeler şunlar için gereklidir:
* Yüksek Frekanslı Elektronik: (ör. AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelektronik: (örneğin, AlGaN, AlInGaN)
2. Temiz Enerji ve Fotovoltaik
TMA, güneş enerjisi teknolojilerinde daha yüksek verimlilik ve dayanıklılık sağlar.
* Yüzey Pasivasyon Katmanları: ALD veya Plazma Destekli CVD (PECVD) ile biriktirilen TMA'dan elde edilen alüminyum oksit (Al₂O₃) filmleri, kristal silikon güneş pilleri için olağanüstü yüzey pasivasyonu sağlar. Bu, yük taşıyıcı rekombinasyonunu önemli ölçüde azaltarak hücre dönüşüm verimliliğinde ve uzun vadeli kararlılıkta önemli kazanımlara yol açar.
3. Gelişmiş Aydınlatma ve Ekran (LED)
Yüksek parlaklıkta ve enerji verimliliğinde LED'lerin üretimi, yüksek saflıkta TMA'ya dayanmaktadır.
* LED Epitaksi: Mavi, yeşil ve ultraviyole LED'lerde aktif katmanların (örneğin AlGaN) büyütülmesi için MOVPE reaktörlerinde alüminyum öncüsü görevi görür.
* Cihaz Pasivasyonu: Optik ekstraksiyon verimliliğini artırmak ve LED cihazlarının çalışma ömrünü uzatmak için koruyucu alüminyum oksit veya alüminyum nitrür filmlerinin kaplanmasında kullanılır.
4. Endüstriyel Kataliz ve Polimer Üretimi
TMA'nın endüstriyel önemi, katalizdeki rolünden kaynaklanmaktadır.
* Poliolefin Katalizi: Ziegler-Natta ve metalosen katalizör sistemlerinde önemli bir yardımcı katalizör olan Metilalüminoksan (MAO) sentezi için birincil başlangıç maddesidir. Bu sistemler, dünyanın polietilen ve polipropilen plastiklerinin büyük çoğunluğunu üretir.
Başlıca Özellikler ve Faydalar:
* Ultra Yüksek Saflık: Elektronik performansı ve katalitik aktiviteyi düşüren safsızlıkları en aza indirmek için titizlikle kontrol edilmiştir.
* Üstün Ön Madde: Yüksek kaliteli film kaplaması için mükemmel uçuculuk, termal kararlılık ve temiz ayrışma özellikleri sunar.
* Sektör Standardı: Dünya çapındaki Ar-Ge ve üretim tesislerinde MOVPE, ALD ve CVD süreçleri için yerleşik, güvenilir alüminyum kaynağı.
* Plastiklerin Temel Hammaddesi: Çok yönlü ve temel poliolefin polimerlerinin üretimini mümkün kılan önemli bir hammadde.
Uyarı: Trimetilalüminyum, özel kullanım ve güvenlik protokolleri gerektiren, yanıcı ve neme duyarlı bir malzemedir. Verilen bilgiler açıklayıcı amaçlıdır. Bu malzemenin tüm geçerli güvenlik yönergelerine uygun olarak kullanılması ve belirli bir uygulama için uygunluğunun belirlenmesi kullanıcının sorumluluğundadır.
