ټری میتیلالومینیم (TMAI)
ټری میتیلالومین (TMAI)
| مترادفات | ټری میتیلالومینیم، المونیم ټری میتیل، المونیم ټری میتانایډ، TMA، TMAL، AlMe3، زیګلر-ناټا کتلست، ټری میتیل-، ټری میتیلالین. |
| د قضیې شمیره | د 75-24-1 معرفي کول |
| کیمیاوي فورمول | د C6H18Al2 معرفي کول |
| د مولر ماس | ۱۴۴.۱۷ ګرامه/مول، ۷۲.۰۹ ګرامه/مول (C3H9Al) |
| بڼه | بې رنګه مایع |
| کثافت | ۰.۷۵۲ ګرامه/سانتي متره |
| د ویلې کېدو نقطه | ۱۵℃ (۵۹ ℉؛ ۲۸۸K) |
| د جوش نقطه | ۱۲۵--۱۳۰℃ (۲۵۷--۲۶۶ ℉، ۳۹۸--۴۰۳K) |
| په اوبو کې محلولیت | غبرګونونه |
| د بخار فشار | 1.2 kPa (20℃)، 9.24 kPa (60℃) |
| ویسکوسیټي | 1.12 cP (20℃)، 0.9 cP (30℃) |
ټری میتیلالومینیم (TMAl)د فلزي-عضوي (MO) سرچینې په توګه، په پراخه کچه د سیمیکمډکټر صنعت کې کارول کیږي او د اټومي طبقې زیرمو (ALD)، کیمیاوي بخار زیرمو (CVD)، او فلزي-عضوي کیمیاوي بخار زیرمو (MOCVD) لپاره د کلیدي مخکیني په توګه کار کوي. دا د لوړ پاکوالي المونیم لرونکي فلمونو چمتو کولو لپاره کارول کیږي، لکه المونیم آکسایډ او المونیم نایټرایډ. سربیره پردې، TMAl د عضوي ترکیب او پولیمرائزیشن تعاملاتو کې د کتلست او د هغې د مرستندویه اجنټ په توګه پراخه غوښتنلیک موندلی.
ټری میتیلالومینیم (TMAI) د المونیم اکسایډ د زیرمو لپاره د مخکیني په توګه کار کوي او د زیګلر-ناټا کتلست په توګه کار کوي. دا د فلزي-عضوي بخار-مرحلې ایپیټیکسي (MOVPE) په تولید کې ترټولو عام کارول شوی المونیم مخکیني هم دی. سربیره پردې، TMAI د میتیلیشن اجنټ په توګه کار کوي او په مکرر ډول د غږیدونکي راکټونو څخه د پورته اتموسفیر باد نمونو مطالعې لپاره د ټرسر په توګه خوشې کیږي.
د 99.9999٪ ټری میتیلالومینیم د تشبث مشخصات - ټیټ سیلیکون او ټیټ اکسیجن مینځپانګه (6N TAMI - ټیټ Si او ټیټ آکس)
| عنصر | پایله | د ځانګړتیاوو | عنصر | پایله | د ځانګړتیاوو | عنصر | پایله | د ځانګړتیاوو |
| Ag | ND | <0.03 | Cr | ND | <0.02 | S | ND | <0.05 |
| As | ND | <0.03 | Cu | ND | <0.02 | Sb | ND | <0.05 |
| Au | ND | <0.02 | Fe | ND | <0.04 | Si | ND | ≤0.003 |
| B | ND | <0.03 | Ge | ND | <0.05 | Sn | ND | <0.05 |
| Ba | ND | <0.02 | Hg | ND | <0.03 | Sr | ND | <0.03 |
| Be | ND | <0.02 | La | ND | <0.02 | Ti | ND | <0.05 |
| Bi | ND | <0.03 | Mg | ND | <0.02 | V | ND | <0.03 |
| Ca | ND | <0.03 | Mn | ND | <0.03 | Zn | ND | <0.05 |
| Cd | ND | <0.02 | Ni | ND | <0.03 | |||
| Co | ND | <0.02 | Pb | ND | <0.03 |
یادونه:
له هرڅه پورته، د فلزاتو د وزن له مخې PPM ارزښت، او ND = نه دی موندل شوی
د تحلیل طریقه: ICP-OES/ICP-MS
د FT-NMR پایلې (د FT-NMR عضوي او اکسیجن شوي ناپاکۍ لپاره LOD 0.1ppm دی):
د اکسیجن تضمین <0.2 ppm (په FT-NMR کې اندازه شوی)
۱. هیڅ عضوي ناپاکۍ نه دي موندل شوي
۲. هیڅ اکسیجن لرونکي ناپاکۍ نه دي موندل شوي
ټری میتیلالومینیم (TMAI) د څه لپاره کارول کیږي؟
ټری میتیلالومینیم (TMA)- استعمالونه او استعمالونه
ټری میتیلالومینیم (TMA) یو ډیر لوړ پاکوالی لرونکی ارګانوالومینیم مرکب دی چې په ځینو خورا پرمختللو تولیدي سکتورونو کې د یو مهم مخکیني په توګه کار کوي. د دې استثنایی تعامل او بخار فشار دا د الکترونیک او انرژي ټیکنالوژیو کې د دقیق المونیم لرونکي فلمونو زیرمه کولو لپاره د انتخاب مواد ګرځوي، او همدارنګه د پولیولیفین تولید کې یو بنسټیز جز دی.
زموږ TMA د پاکوالي خورا سخت معیارونو سره سم جوړ شوی، د عنصري، اکسیجن لرونکي، او عضوي ناپاکۍ باندې سخت کنټرول سره ترڅو ستاسو په خورا تقاضا غوښتنلیکونو کې غوره فعالیت ډاډمن کړي.
لومړني غوښتنلیکونه او صنعتونه:
۱. سیمیکمډکټر او مایکرو الیکترونیک جوړول
په سیمیکمډکټر صنعت کې، TMA د اټومي پیمانه دقت سره د پتلو فلمونو زیرمه کولو لپاره اړین دی.
* لوړ-k ډایالیکټریکونه: د اتومي طبقې زیرمه (ALD) او کیمیاوي بخار زیرمه (CVD) کې کارول کیږي ترڅو د المونیم اکسایډ (Al₂O₃) یونیفورم، پن سوراخ څخه پاک پتلي فلمونه وده وکړي، کوم چې په پرمختللو ټرانزیسټرونو او حافظې وسیلو کې د لوړ-k دروازې ډایالیکټریک په توګه کار کوي.
* مرکب سیمیکمډکټرونه: د لوړ فعالیت III-V مرکب سیمیکمډکټرونو د ودې لپاره د فلزي عضوي بخار مرحله ایپیټیکسي (MOVPE) کې غوره المونیم سرچینه. دا مواد د دې لپاره اړین دي:
* د لوړ فریکونسۍ الکترونیکونه: (د مثال په توګه، AlGaAs، AlInGaP)
* آپټو الیکترونیک: (د مثال په توګه، AlGaN، AlInGaN)
۲. پاکه انرژي او فوتوولټیکونه
TMA د لمریزې انرژۍ ټیکنالوژیو کې لوړ موثریت او دوام ته اجازه ورکوي.
* د سطحې غیر فعالولو طبقې: د ALD یا پلازما-انحانسډ CVD (PECVD) له لارې زیرمه شوي، د TMA څخه المونیم اکسایډ (Al₂O₃) فلمونه د کرسټالین سیلیکون سولر حجرو لپاره د سطحې غیر فعالولو عالي چمتو کوي. دا په ډراماتیک ډول د چارج کیریر بیا ترکیب کموي، چې د حجرو د تبادلې موثریت او اوږدمهاله ثبات کې د پام وړ لاسته راوړنو لامل کیږي.
۳. پرمختللې رڼا او ښودنه (LED)
د لوړ روښانتیا او انرژۍ موثره LEDs تولید د لوړ پاکوالي TMA پورې اړه لري.
* LED Epitaxy: په MOVPE ریکټورونو کې د المونیم مخکیني په توګه کار کوي ترڅو فعال پرتونه (د مثال په توګه، AlGaN) په نیلي، شنه، او الټرا وایلیټ LEDs کې وده وکړي.
* د وسیلې غیر فعالول: د محافظتي المونیم آکسایډ یا المونیم نایټرایډ فلمونو زیرمه کولو لپاره کارول کیږي چې د نظري استخراج موثریت لوړوي او د LED وسیلو عملیاتي عمر اوږدوي.
۴. صنعتي کتلیسیس او پولیمر تولید
د TMA صنعتي اهمیت د کتلایسس په رول کې ریښه لري.
* پولیولیفین کتلیزس: دا د میتیلالومینوکسین (MAO) د ترکیب لپاره لومړنی پیل کونکی مواد دی، چې د زیګلر-ناټا او میټالوسین کتلست سیسټمونو کې یو مهم شریک کتلست دی. دا سیسټمونه د نړۍ د پولی ایتیلین او پولی پروپیلین پلاستیکونو لویه برخه تولیدوي.
مهمې ځانګړتیاوې او ګټې:
* خورا لوړ پاکوالی: په دقت سره کنټرول شوی ترڅو هغه ناپاکۍ کمې کړي چې د بریښنایی فعالیت او کتلټیک فعالیت خرابوي.
* غوره مخکینی: د لوړ کیفیت فلم زیرمه کولو لپاره غوره بې ثباتي، حرارتي ثبات، او پاک تجزیه ځانګړتیاوې وړاندې کوي.
* د صنعت معیار: د نړۍ په کچه د R&D او تولیدي تاسیساتو کې د MOVPE، ALD، او CVD پروسو لپاره تاسیس شوی، باوري المونیم سرچینه.
* د پلاستیک لپاره بنسټ: یو مهم خام مواد چې د څو اړخیزو او اړینو پولیولفین پولیمرونو تولید ته اجازه ورکوي.
رد کول: ټری میتیلالومینیم یو پایروفوریک او د رطوبت حساس مواد دی چې ځانګړي اداره کولو او خوندیتوب پروتوکولونو ته اړتیا لري. چمتو شوي معلومات د توضیحي موخو لپاره دي. دا د کارونکي مسؤلیت دی چې دا مواد د ټولو پلي کیدونکي خوندیتوب لارښوونو سره سم اداره کړي او د ځانګړي کارونې لپاره یې مناسبیت وټاکي.
