
Trimetyloalumanu (TMAI)
| Synonimy | Trimetyloaluminium, Trimetyloglinu glinu, Trimetanoglinu glinu, TMA, TMAL, AlMe3, katalizator Zieglera-Natty, Trimetylo-, Trimetyloalan. |
| Numer sprawy | 75-24-1 |
| Wzór chemiczny | C6H18Al2 |
| Masa molowa | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Wygląd | Bezbarwna ciecz |
| Gęstość | 0,752 g/cm3 |
| Temperatura topnienia | 15℃ (59℉; 288K) |
| Temperatura wrzenia | 125--130℃ (257--266℉, 398--403K) |
| Rozpuszczalność w wodzie | Reaguje |
| Prężność pary | 1,2 kPa (20℃), 9,24 kPa (60℃) |
| Lepkość | 1,12 cP (20℃), 0,9 cP (30℃) |
Trimetyloglinu (TMAl), jako źródło związków metaloorganicznych (MO), jest szeroko wykorzystywany w przemyśle półprzewodników i służy jako kluczowy prekursor w procesie osadzania warstw atomowych (ALD), chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD) oraz chemicznego osadzania z fazy gazowej związków metaloorganicznych (MOCVD). Jest on wykorzystywany do otrzymywania wysokiej czystości warstw zawierających aluminium, takich jak tlenek glinu i azotek glinu. Ponadto TMAl znajduje szerokie zastosowanie jako katalizator i środek pomocniczy w reakcjach syntezy organicznej i polimeryzacji.
Trimetyloglinu (TMAI) działa jako prekursor osadzania tlenku glinu i pełni funkcję katalizatora Zieglera-Natty. Jest również najczęściej stosowanym prekursorem glinu w produkcji metaloorganicznej epitaksji z fazy gazowej (MOVPE). Ponadto TMAI pełni funkcję czynnika metylującego i jest często uwalniany przez rakiety sondażowe jako wskaźnik do badania wzorców wiatru w górnych warstwach atmosfery.
Specyfikacja przedsiębiorstwa dla 99,9999% trimetyloglinu – niska zawartość krzemu i tlenu (6N TAMI – niska zawartość Si i Ox)
| Element | Wynik | Specyfikacja | Element | Wynik | Specyfikacja | Element | Wynik | Specyfikacja |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Notatka:
Przede wszystkim wartość PPM według masy metalu i ND = nie wykryto
Metoda analizy: ICP-OES/ICP-MS
Wyniki FT-NMR (LOD dla organicznych i utlenionych zanieczyszczeń FT-NMR wynosi 0,1 ppm):
Gwarancja tlenu <0,2 ppm (mierzona w FT-NMR)
1. Nie wykryto zanieczyszczeń organicznych
2. Nie wykryto zanieczyszczeń utlenionych
Do czego stosuje się trimetyloglin (TMAI)?
Trimetyloglinu (TMA)- Zastosowania i zastosowania
Trimetyloglinu (TMA) to związek glinoorganiczny o ultrawysokiej czystości, który pełni rolę kluczowego prekursora w niektórych z najbardziej zaawansowanych sektorów produkcyjnych. Jego wyjątkowa reaktywność i prężność par sprawiają, że jest to materiał pierwszego wyboru do osadzania precyzyjnych powłok zawierających aluminium w elektronice i energetyce, a także podstawowy składnik w produkcji poliolefin.
Nasze urządzenie TMA jest produkowane zgodnie z najsurowszymi normami czystości, z rygorystyczną kontrolą zanieczyszczeń pierwiastkowych, utlenionych i organicznych, aby zagwarantować optymalną wydajność w najbardziej wymagających zastosowaniach.
Główne zastosowania i branże:
1. Produkcja półprzewodników i mikroelektroniki
W przemyśle półprzewodnikowym TMA jest niezastąpiona przy nakładaniu cienkich warstw z precyzją rzędu atomów.
* Dielektryki o wysokiej stałej dielektrycznej (High-k): stosowane w osadzaniu warstw atomowych (ALD) i osadzaniu z fazy gazowej (CVD) do wytwarzania jednorodnych, pozbawionych dziurek cienkich warstw tlenku glinu (Al₂O₃), które pełnią funkcję dielektryków bramkowych o wysokiej stałej dielektrycznej (High-k) w zaawansowanych tranzystorach i układach pamięci.
* Półprzewodniki złożone: Preferowane źródło aluminium w metaloorganicznej epitaksji z fazy gazowej (MOVPE) do produkcji wysokowydajnych półprzewodników złożonych III-V. Materiały te są niezbędne do:
* Elektronika wysokiej częstotliwości: (np. AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelektronika: (np. AlGaN, AlInGaN)
2. Czysta energia i fotowoltaika
TMA zapewnia większą wydajność i trwałość technologii energii słonecznej.
* Warstwy pasywacji powierzchni: Osadzane metodą ALD lub CVD wspomaganego plazmą (PECVD), warstwy tlenku glinu (Al₂O₃) firmy TMA zapewniają doskonałą pasywację powierzchni krystalicznych krzemowych ogniw słonecznych. To radykalnie zmniejsza rekombinację nośników ładunku, co prowadzi do znacznego wzrostu wydajności konwersji ogniw i ich długoterminowej stabilności.
3. Zaawansowane oświetlenie i wyświetlacz (LED)
Produkcja energooszczędnych i jasnych diod LED opiera się na wysokiej czystości TMA.
* Epitaksja LED: Służy jako prekursor aluminium w reaktorach MOVPE do wytwarzania warstw aktywnych (np. AlGaN) w niebieskich, zielonych i ultrafioletowych diodach LED.
* Pasywacja urządzenia: stosowana w celu osadzania ochronnych warstw tlenku glinu lub azotku glinu, które zwiększają wydajność ekstrakcji optycznej i wydłużają żywotność urządzeń LED.
4. Kataliza przemysłowa i produkcja polimerów
Znaczenie przemysłowe TMA wynika z jego roli w katalizie.
* Kataliza poliolefinowa: Jest to główny materiał wyjściowy do syntezy metyloaluminoksanu (MAO), kluczowego współkatalizatora w układach Zieglera-Natty i katalizatorach metalocenowych. Układy te produkują zdecydowaną większość światowych tworzyw sztucznych polietylenowych i polipropylenowych.
Główne cechy i korzyści:
* Ultrawysoka czystość: skrupulatnie kontrolowana w celu zminimalizowania zanieczyszczeń, które pogarszają wydajność elektroniczną i aktywność katalityczną.
* Doskonały prekursor: zapewnia doskonałą lotność, stabilność termiczną i czyste właściwości rozkładu, co przekłada się na wysokiej jakości osadzanie warstw.
* Standard branżowy: Znane i zaufane źródło aluminium do procesów MOVPE, ALD i CVD w światowych zakładach badawczo-rozwojowych i produkcyjnych.
* Fundacja ds. Tworzyw Sztucznych: Kluczowy surowiec umożliwiający produkcję wszechstronnych i niezbędnych polimerów poliolefinowych.
Zastrzeżenie: Trimetyloglinu jest materiałem piroforycznym i wrażliwym na wilgoć, który wymaga specjalistycznego postępowania i przestrzegania protokołów bezpieczeństwa. Podane informacje mają charakter opisowy. Użytkownik jest odpowiedzialny za postępowanie z tym materiałem zgodnie ze wszystkimi obowiązującymi wytycznymi bezpieczeństwa i za określenie jego przydatności do konkretnego zastosowania.