Trimetilaluminio (TMAI)
Trimetilalumano (TMAI)
| Sinónimos | Trimetilaluminio, Trimetilaluminio, Trimetanuro de aluminio, TMA, TMAL, AlMe3, Catalizador Ziegler-Natta, Trimetil-, Trimetilalano. |
| Número CAS | 75-24-1 |
| Fórmula química | C6H18Al2 |
| Masa molar | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Apariencia | líquido incoloro |
| Densidad | 0,752 g/cm³ |
| Punto de fusión | 15℃ (59 ℉; 288 K) |
| Punto de ebullición | 125-130 ℃ (257-266 ℉, 398-403 K) |
| Solubilidad en agua | Reacciona |
| Presión de vapor | 1,2 kPa (20 ℃), 9,24 kPa (60 ℃) |
| Viscosidad | 1,12 cP (20 ℃), 0,9 cP (30 ℃) |
Trimetilaluminio (TMAl)El TMAl, como fuente metalorgánica (MO), se utiliza ampliamente en la industria de semiconductores y es un precursor clave para la deposición de capas atómicas (ALD), la deposición química de vapor (CVD) y la deposición química de vapor metalorgánico (MOCVD). Se emplea para preparar películas de aluminio de alta pureza, como óxido de aluminio y nitruro de aluminio. Además, el TMAl tiene una amplia aplicación como catalizador y agente auxiliar en reacciones de síntesis orgánica y polimerización.
El trimetilaluminio (TMAI) actúa como precursor de la deposición de óxido de aluminio y funciona como catalizador Ziegler-Natta. Además, es el precursor de aluminio más utilizado en la producción de epitaxia metalorgánica en fase vapor (MOVPE). Asimismo, el TMAI actúa como agente de metilación y se libera frecuentemente desde cohetes sonda como trazador para el estudio de los patrones de viento en la atmósfera superior.
Especificación empresarial de trimetilaluminio al 99,9999%: bajo contenido de silicio y oxígeno (6N TAMI-Low Si and Low Ox)
| Elemento | Resultado | Especificación | Elemento | Resultado | Especificación | Elemento | Resultado | Especificación |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Nota:
Por encima de todo valor PPM por peso en metal, y ND = no detectado
Método de análisis: ICP-OES/ICP-MS
Resultados de FT-NMR (LOD para FT-NMR de impurezas orgánicas y oxigenadas es 0,1 ppm):
Garantía de oxígeno <0,2 ppm (medida mediante RMN-FT)
1. No se detectaron impurezas orgánicas.
2. No se detectaron impurezas oxigenadas.
¿Para qué se utiliza el trimetilaluminio (TMAI)?
Trimetilaluminio (TMA)- Aplicaciones y usos
El trimetilaluminio (TMA) es un compuesto organoaluminio de ultra alta pureza que constituye un precursor fundamental en algunos de los sectores de fabricación más avanzados. Su excepcional reactividad y presión de vapor lo convierten en el material idóneo para la deposición de películas precisas que contienen aluminio en tecnologías electrónicas y energéticas, así como en un componente esencial en la producción de poliolefinas.
Nuestro TMA se fabrica siguiendo los estándares de pureza más estrictos, con un control riguroso de las impurezas elementales, oxigenadas y orgánicas para garantizar un rendimiento óptimo en sus aplicaciones más exigentes.
Principales aplicaciones e industrias:
1. Fabricación de semiconductores y microelectrónica
En la industria de los semiconductores, el TMA es indispensable para depositar películas delgadas con precisión a escala atómica.
* Dieléctricos de alta constante dieléctrica: Se utilizan en la deposición de capas atómicas (ALD) y la deposición química de vapor (CVD) para cultivar películas delgadas uniformes y sin poros de óxido de aluminio (Al₂O₃), que sirven como dieléctricos de puerta de alta constante dieléctrica en transistores y dispositivos de memoria avanzados.
* Semiconductores compuestos: La fuente de aluminio preferida en la epitaxia en fase vapor metalorgánica (MOVPE) para el crecimiento de semiconductores compuestos III-V de alto rendimiento. Estos materiales son esenciales para:
* Electrónica de alta frecuencia: (por ejemplo, AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelectrónica: (por ejemplo, AlGaN, AlInGaN)
2. Energía limpia y energía fotovoltaica
La tecnología TMA permite una mayor eficiencia y durabilidad en las tecnologías de energía solar.
* Capas de pasivación superficial: Las películas de óxido de aluminio (Al₂O₃) de TMA, depositadas mediante ALD o CVD mejorada por plasma (PECVD), proporcionan una pasivación superficial excepcional para las células solares de silicio cristalino. Esto reduce drásticamente la recombinación de portadores de carga, lo que se traduce en mejoras significativas en la eficiencia de conversión y la estabilidad a largo plazo de la célula.
3. Iluminación y pantalla avanzadas (LED)
La producción de LED de alto brillo y eficiencia energética depende del TMA de alta pureza.
* Epitaxia de LED: Sirve como precursor de aluminio en reactores MOVPE para el crecimiento de las capas activas (por ejemplo, AlGaN) en LED azules, verdes y ultravioleta.
* Pasivación del dispositivo: Se utiliza para depositar películas protectoras de óxido de aluminio o nitruro de aluminio que mejoran la eficiencia de extracción óptica y prolongan la vida útil de los dispositivos LED.
4. Catálisis industrial y producción de polímeros
La importancia industrial de la TMA radica en su papel en la catálisis.
* Catálisis de poliolefinas: Es la materia prima principal para la síntesis de metilaluminoxano (MAO), un cocatalizador crucial en los sistemas catalíticos de Ziegler-Natta y metalocenos. Estos sistemas producen la gran mayoría de los plásticos de polietileno y polipropileno del mundo.
Características y beneficios clave:
* Ultra alta pureza: Controlado meticulosamente para minimizar las impurezas que degradan el rendimiento electrónico y la actividad catalítica.
* Precursor superior: Ofrece una excelente volatilidad, estabilidad térmica y características de descomposición limpia para la deposición de películas de alta calidad.
* Estándar de la industria: La fuente de aluminio consolidada y de confianza para los procesos MOVPE, ALD y CVD en instalaciones de I+D y producción a nivel mundial.
* Base para plásticos: Una materia prima clave que permite la producción de polímeros de poliolefina versátiles y esenciales.
Aviso legal: El trimetilaluminio es un material pirofórico y sensible a la humedad que requiere manipulación especializada y protocolos de seguridad. La información proporcionada tiene fines descriptivos. Es responsabilidad del usuario manipular este material siguiendo todas las normas de seguridad aplicables y determinar su idoneidad para una aplicación específica.
