Trimethylaluminium (TMAI)
Trimethylaluminaat (TMAI)
| Synoniemen | Trimethylaluminium, Aluminiumtrimethyl, Aluminiumtrimethanide, TMA, TMAL, AlMe3, Ziegler-Natta-katalysator, Trimethyl-, Trimethylalaan. |
| CAS-nummer | 75-24-1 |
| Chemische formule | C6H18Al2 |
| Molaire massa | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Verschijning | Kleurloze vloeistof |
| Dikte | 0,752 g/cm3 |
| Smeltpunt | 15℃ (59 ℉; 288K) |
| Kookpunt | 125-130℃ (257-266 ℉, 398-403K) |
| Oplosbaarheid in water | Reageert |
| Dampdruk | 1,2 kPa (20℃), 9,24 kPa (60℃) |
| Viscositeit | 1,12 cP (20℃), 0,9 cP (30℃) |
Trimethylaluminium (TMAl)TMAl, als metaal-organische (MO) bron, wordt veelvuldig gebruikt in de halfgeleiderindustrie en dient als belangrijke precursor voor atomaire laagdunne depositie (ALD), chemische dampdepositie (CVD) en metaal-organische chemische dampdepositie (MOCVD). Het wordt gebruikt voor de bereiding van zeer zuivere aluminiumhoudende films, zoals aluminiumoxide en aluminiumnitride. Daarnaast vindt TMAl uitgebreide toepassing als katalysator en hulpstof in organische synthese- en polymerisatiereacties.
Trimethylaluminium (TMAI) fungeert als precursor voor de afzetting van aluminiumoxide en als Ziegler-Natta-katalysator. Het is tevens de meest gebruikte aluminiumprecursor bij de productie van metaal-organische dampfase-epitaxie (MOVPE). Daarnaast dient TMAI als methyleringsmiddel en wordt het vaak door sondeerraketten gebruikt als tracer voor het bestuderen van windpatronen in de bovenste atmosfeer.
Bedrijfsspecificatie van 99,9999% trimethylaluminium - Laag silicium- en zuurstofgehalte (6N TAMI - Laag Si en Laag Ox)
| Element | Resultaat | Specificatie | Element | Resultaat | Specificatie | Element | Resultaat | Specificatie |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Opmerking:
Bovenal wordt de PPM-waarde bepaald op basis van het gewicht van het metaal, en ND = niet gedetecteerd.
Analysemethode: ICP-OES/ICP-MS
FT-NMR-resultaten (detectielimiet voor organische en zuurstofhoudende onzuiverheden in FT-NMR is 0,1 ppm):
Zuurstofgarantie <0,2 ppm (gemeten met FT-NMR)
1. Geen organische onzuiverheden aangetroffen
2. Geen zuurstofhoudende onzuiverheden gedetecteerd
Waarvoor wordt trimethylaluminium (TMAI) gebruikt?
Trimethylaluminium (TMA)- Toepassingen en gebruiksmogelijkheden
Trimethylaluminium (TMA) is een organoaluminiumverbinding met een ultrahoge zuiverheid die dient als een cruciale grondstof in enkele van de meest geavanceerde productiesectoren. Dankzij de uitzonderlijke reactiviteit en dampdruk is het het materiaal bij uitstek voor het afzetten van nauwkeurige aluminiumhoudende films in elektronica- en energietechnologieën, en vormt het een essentieel onderdeel in de productie van polyolefinen.
Onze TMA wordt geproduceerd volgens de strengste zuiverheidsnormen, met strikte controle op elementaire, zuurstofhoudende en organische onzuiverheden om optimale prestaties te garanderen in uw meest veeleisende toepassingen.
Belangrijkste toepassingen en industrieën:
1. Fabricage van halfgeleiders en micro-elektronica
In de halfgeleiderindustrie is TMA onmisbaar voor het afzetten van dunne films met atomaire precisie.
* Hoog-k diëlektrische materialen: Deze worden gebruikt bij atomaire laagafzetting (ALD) en chemische dampafzetting (CVD) om uniforme, gaatjesvrije dunne films van aluminiumoxide (Al₂O₃) te laten groeien, die dienen als hoog-k poortdiëlektrische materialen in geavanceerde transistors en geheugenapparaten.
* Samengestelde halfgeleiders: De geprefereerde aluminiumbron in metaalorganische dampfase-epitaxie (MOVPE) voor het kweken van hoogwaardige III-V-samengestelde halfgeleiders. Deze materialen zijn essentieel voor:
* Hoogfrequente elektronica: (bijv. AlGaAs, AlInGaP)
* Opto-elektronica: (bijv. AlGaN, AlInGaN)
2. Schone energie en fotovoltaïsche cellen
TMA maakt een hogere efficiëntie en duurzaamheid mogelijk in zonne-energietechnologieën.
* Oppervlaktepassiveringslagen: Aluminiumoxide (Al₂O₃)-films van TMA, aangebracht via ALD of plasma-enhanced CVD (PECVD), bieden een uitstekende oppervlaktepassivering voor kristallijne siliciumzonnecellen. Dit vermindert de recombinatie van ladingsdragers drastisch, wat leidt tot aanzienlijke verbeteringen in de conversie-efficiëntie en de stabiliteit op lange termijn.
3. Geavanceerde verlichting en displays (LED)
De productie van zeer heldere en energiezuinige LED's is afhankelijk van zeer zuiver TMA.
* LED-epitaxie: Dient als aluminiumprecursor in MOVPE-reactoren voor de groei van de actieve lagen (bijv. AlGaN) in blauwe, groene en ultraviolette LED's.
* Apparaatpassivering: Wordt gebruikt om beschermende aluminiumoxide- of aluminiumnitridefilms aan te brengen die de optische extractie-efficiëntie verbeteren en de levensduur van LED-apparaten verlengen.
4. Industriële katalyse en polymeerproductie
De industriële betekenis van TMA is geworteld in de rol die het speelt in de katalyse.
* Polyolefinekatalyse: Het is het belangrijkste uitgangsmateriaal voor de synthese van methylaluminoxaan (MAO), een cruciale co-katalysator in Ziegler-Natta- en metallocene-katalysatorsystemen. Deze systemen produceren het overgrote deel van de wereldwijde productie van polyethyleen- en polypropyleenkunststoffen.
Belangrijkste kenmerken en voordelen:
* Ultrahoge zuiverheid: Nauwkeurig gecontroleerd om onzuiverheden te minimaliseren die de elektronische prestaties en katalytische activiteit kunnen verminderen.
* Superieure precursor: Biedt uitstekende vluchtigheid, thermische stabiliteit en schone ontledingseigenschappen voor hoogwaardige filmdepositie.
* Industriestandaard: De gevestigde, vertrouwde aluminiumleverancier voor MOVPE-, ALD- en CVD-processen in wereldwijde R&D- en productiefaciliteiten.
* Fundament voor kunststoffen: Een belangrijke grondstof die de productie van veelzijdige en essentiële polyolefinepolymeren mogelijk maakt.
Disclaimer: Trimethylaluminium is een pyrofoor en vochtgevoelig materiaal dat speciale hanterings- en veiligheidsprotocollen vereist. De verstrekte informatie is uitsluitend beschrijvend. Het is de verantwoordelijkheid van de gebruiker om dit materiaal te hanteren volgens alle geldende veiligheidsrichtlijnen en om de geschiktheid ervan voor een specifieke toepassing te bepalen.
