Perkembangan sing cepet ing babagan informasi lan optoelektronik wis ningkatake pembaruan teknologi pemolesan mekanik kimia (CMP) sing terus-terusan. Saliyane peralatan lan bahan, akuisisi permukaan presisi ultra-tinggi luwih gumantung marang desain lan produksi industri partikel abrasif efisiensi dhuwur, uga persiapan bubur pemoles sing cocog. Lan kanthi peningkatan terus-terusan saka akurasi lan syarat efisiensi pangolahan permukaan, syarat kanggo bahan pemoles efisiensi dhuwur uga saya tambah dhuwur. Serium dioksida wis digunakake sacara wiyar ing mesin presisi permukaan piranti mikroelektronik lan komponen optik presisi.
Bubuk poles cerium oksida (VK-Ce01) nduweni kaluwihan yaiku kemampuan motong sing kuwat, efisiensi polesan sing dhuwur, akurasi polesan sing dhuwur, kualitas polesan sing apik, lingkungan operasi sing resik, polusi sing sithik, umur layanan sing dawa, lan liya-liyane, lan akeh digunakake ing polesan presisi optik lan CMP, lan liya-liyane. Lapangan iki nduweni posisi sing penting banget.
Sifat dhasar cerium oksida:
Ceria, uga dikenal minangka cerium oksida, minangka oksida saka cerium. Ing wektu iki, valensi cerium yaiku +4, lan rumus kimia yaiku CeO2. Produk murni kasebut awujud bubuk putih kandel utawa kristal kubik, lan produk sing ora murni awujud bubuk kuning enom utawa malah jambon nganti coklat semu abang (amarga ngandhut jumlah sithik lantanum, praseodymium, lan liya-liyane). Ing suhu lan tekanan ruangan, ceria minangka oksida cerium sing stabil. Cerium uga bisa mbentuk valensi +3 Ce2O3, sing ora stabil lan bakal mbentuk CeO2 sing stabil karo O2. Cerium oksida rada larut ing banyu, alkali lan asam. Kapadhetan yaiku 7,132 g/cm3, titik leleh yaiku 2600℃, lan titik didih yaiku 3500℃.
Mekanisme polesan cerium oksida
Kekerasan partikel CeO2 ora dhuwur. Kaya sing dituduhake ing tabel ing ngisor iki, kekerasan cerium oksida luwih endhek tinimbang berlian lan aluminium oksida, lan uga luwih endhek tinimbang zirkonium oksida lan silikon oksida, sing padha karo ferik oksida. Mula, sacara teknis ora bisa dipoles bahan berbasis silikon oksida, kayata kaca silikat, kaca kuarsa, lan liya-liyane, nganggo ceria kanthi kekerasan sing endhek mung saka sudut pandang mekanik. Nanging, cerium oksida saiki minangka bubuk poles sing disenengi kanggo poles bahan berbasis silikon oksida utawa malah bahan silikon nitrida. Bisa dideleng manawa poles cerium oksida uga duwe efek liyane kajaba efek mekanik. Kekerasan berlian, sing minangka bahan penggilingan lan poles sing umum digunakake, biasane duwe kekosongan oksigen ing kisi CeO2, sing ngganti sifat fisik lan kimia lan duwe pengaruh tartamtu marang sifat poles. Bubuk poles cerium oksida sing umum digunakake ngemot jumlah tartamtu oksida tanah langka liyane. Praseodymium oksida (Pr6O11) uga nduweni struktur kisi kubik sing berpusat ing rai, sing cocok kanggo polesan, dene oksida tanah langka lantanida liyane ora nduweni kemampuan polesan. Tanpa ngganti struktur kristal CeO2, bisa mbentuk larutan padat karo bubuk kasebut ing kisaran tartamtu. Kanggo bubuk poles nano-cerium oksida kemurnian tinggi (VK-Ce01), luwih dhuwur kemurnian cerium oksida (VK-Ce01), luwih gedhe kemampuan polesan lan umur layanan sing luwih dawa, utamane kanggo lensa optik kaca keras lan kuarsa sajrone wektu sing suwe. Nalika polesan siklik, disaranake nggunakake bubuk poles cerium oksida kemurnian tinggi (VK-Ce01).
Aplikasi bubuk poles cerium oksida:
Bubuk poles cerium oksida (VK-Ce01), utamane digunakake kanggo poles produk kaca, utamane digunakake ing bidang-bidang ing ngisor iki:
1. Kacamata, poles lensa kaca;
2. Lensa optik, kaca optik, lensa, lan liya-liyane;
3. Kaca layar ponsel, permukaan jam tangan (lawang jam tangan), lan liya-liyane;
4. Monitor LCD kabeh jinis layar LCD;
5. Rhinestones, berlian panas (kartu, berlian ing jins), bal lampu (lampu gantung mewah ing aula gedhe);
6. Kerajinan kristal;
7. Polesan sebagian giok
Turunan poles cerium oksida saiki:
Permukaan cerium oksida didoping nganggo aluminium kanggo ningkatake polesan kaca optik kanthi signifikan.
Departemen Riset lan Pengembangan Teknologi UrbanMines Tech. Limited, ngusulake manawa peracikan lan modifikasi permukaan partikel poles minangka metode lan pendekatan utama kanggo ningkatake efisiensi lan akurasi polesan CMP. Amarga sifat partikel bisa disetel kanthi peracikan unsur multi-komponen, lan stabilitas dispersi lan efisiensi polesan bubur poles bisa ditingkatake kanthi modifikasi permukaan. Kinerja persiapan lan polesan bubuk CeO2 sing didoping TiO2 bisa ningkatake efisiensi polesan luwih saka 50%, lan ing wektu sing padha, cacat permukaan uga suda nganti 80%. Efek polesan sinergis saka oksida komposit CeO2 ZrO2 lan SiO2 2CeO2; mulane, teknologi persiapan oksida komposit mikro-nano ceria sing didoping nduweni makna gedhe kanggo pangembangan bahan polesan anyar lan diskusi babagan mekanisme polesan. Saliyane jumlah doping, kahanan lan distribusi dopan ing partikel sing disintesis uga mengaruhi banget sifat permukaan lan kinerja polesan.
Antarane, sintesis partikel poles kanthi struktur cladding luwih narik kawigaten. Mulane, pemilihan metode lan kondisi sintetis uga penting banget, utamane metode sing prasaja lan efektif biaya. Nggunakake cerium karbonat terhidrasi minangka bahan baku utama, partikel poles cerium oksida sing didoping aluminium disintesis kanthi metode mekanokimia fase padat basah. Ing tumindak gaya mekanik, partikel gedhe cerium karbonat terhidrasi bisa dibelah dadi partikel alus, dene aluminium nitrat reaksi karo banyu amonia kanggo mbentuk partikel koloid amorf. Partikel koloid gampang nempel ing partikel cerium karbonat, lan sawise pangatusan lan kalsinasi, doping aluminium bisa ditindakake ing permukaan cerium oksida. Metode iki digunakake kanggo nyintesis partikel cerium oksida kanthi jumlah doping aluminium sing beda-beda, lan kinerja polesane ditondoi. Sawise jumlah aluminium sing cocog ditambahake ing permukaan partikel cerium oksida, nilai negatif potensial permukaan bakal mundhak, sing banjur nggawe celah antarane partikel abrasif. Ana tolakan elektrostatik sing luwih kuwat, sing ningkatake stabilitas suspensi abrasif. Ing wektu sing padha, adsorpsi timbal balik antarane partikel abrasif lan lapisan alus sing diisi positif liwat daya tarik Coulomb uga bakal dikuatake, sing migunani kanggo kontak timbal balik antarane lapisan abrasif lan alus ing permukaan kaca sing dipoles, lan ningkatake peningkatan tingkat polesan.