نزدیک1

اکسید تانتالوم (V) (Ta2O5 یا پنتوکسید تانتالوم) با خلوص 99.99٪، CAS 1314-61-0

شرح مختصر:

اکسید تانتالوم (V) (Ta2O5 یا پنتوکسید تانتالوم)یک ترکیب جامد سفید و پایدار است. این پودر با رسوب دادن محلول اسیدی حاوی تانتالوم، فیلتر کردن رسوب و کلسینه کردن کیک فیلتر تولید می‌شود. اغلب برای برآورده کردن نیازهای مختلف کاربرد، تا اندازه ذرات مطلوب آسیاب می‌شود.


جزئیات محصول

پنتوکسید تانتالم
مترادف‌ها: اکسید تانتالیم (V)، پنتوکسید دیتانتالوم
شماره CAS ۱۳۱۴-۶۱-۰
فرمول شیمیایی Ta2O5
جرم مولی ۴۴۱.۸۹۳ گرم بر مول
ظاهر پودر سفید و بی بو
تراکم β-Ta2O5 = 8.18 گرم بر سانتی‌متر مکعب، α-Ta2O5 = 8.37 گرم بر سانتی‌متر مکعب
نقطه ذوب ۱۸۷۲ درجه سانتیگراد (۳۴۰۲ درجه فارنهایت؛ ۲۱۴۵ کلوین)
حلالیت در آب ناچیز
حلالیت نامحلول در حلال‌های آلی و بیشتر اسیدهای معدنی، با HF واکنش می‌دهد
شکاف باند ۳.۸–۵.۳ الکترون‌ولت
پذیرفتاری مغناطیسی (χ) ‎-32.0×10−6 سانتی‌متر مکعب بر مول‎
ضریب شکست (nD) ۲.۲۷۵

 

مشخصات شیمیایی پنتوکسید تانتالوم با خلوص بالا

نماد Ta2O5(درصد حداقل) مات خارجی.≤ppm لوی اندازه
Nb Fe Si Ti Ni Cr Al Mn Cu W Mo Pb Sn آل+کا+لی K Na F
UMTO4N ۹۹.۹۹ 30 5 10 3 3 3 5 3 3 5 5 3 3 - 2 2 50 ۰.۲۰٪ 0.5-2 میکرومتر
UMTO3N ۹۹.۹ 3 4 4 1 4 1 2 10 4 3 3 2 2 5 - - 50 ۰.۲۰٪ 0.5-2 میکرومتر

بسته بندی: در بشکه های آهنی با پلاستیک دولایه آب بندی شده داخلی.

 

اکسیدهای تانتالوم و پنتوکسیدهای تانتالوم برای چه مواردی استفاده می‌شوند؟

حوزه‌های کاربردی اصلی

۱. مواد کاربردی الکترونیکی

۱. زیرلایه فیلتر موج آکوستیک سطحی (SAW):

- ماده اولیه اصلی برای سنتز تک بلورهای لیتیوم تانتالات (LiTaO₃) که برای ساخت فیلترهای فرکانس رادیویی برای دستگاه‌های ارتباطی سیار استفاده می‌شود.

- برنامه‌های ترمینال: تلفن‌های هوشمند/تبلت‌ها (پشتیبانی از باند 5G)، ماژول‌های GPS، کنتورهای هوشمند اینترنت اشیا

- مزیت عملکرد: پایداری فرکانس ±0.5ppm (-40℃ تا +85℃)

۲. پیش‌سازهای نیمه‌هادی:

- ماده اولیه مصنوعی کاربید تانتالیوم (TaC): برای پوشش ابزار فوق سخت (میکروهاردنس ≥ 2200 HV)

- هدف کندوپاش: رسوب لایه دی‌الکتریک خازن DRAM (ثابت دی‌الکتریک εr = 25-30)

 

۲. فناوری نوری

۱. سیستم نوری پیشرفته:

- تقویت‌کننده ضریب شکست: افزایش ضریب شکست شیشه نوری به nd=1.75-2.20 (400-700nm)

- پوشش کم جذب: تهیه فیلم ضد انعکاس (ضریب خاموشی k<0.001@550nm)

۲. کاربردهای ویژه الیاف:

- ناخالصی‌های توری براگ فیبری: بهبود حساسیت دمایی تا 15pm/°C

- اجزای نوری مادون قرمز: عبور در باند مادون قرمز میانی 3-5 میکرومتر > 92٪

 

۳. کاتالیز و اصلاح صنعتی

۱. کاتالیز شیمیایی:

- کاتالیزور اپوکسیداسیون الفین: نرخ تبدیل > 95% (راکتور بستر ثابت)

- فوتوکاتالیست برای تولید هیدروژن از آب (کامپوزیت با CdS)

۲. اصلاح مواد:

- افزودنی‌های آلیاژی مقاوم در برابر خوردگی: بهبود مقاومت اکسیداسیون آلیاژهای پایه نیکل در دمای 1100 درجه سانتیگراد

- فاز تقویت سرامیکی: چقرمگی شکست کامپوزیت‌های پایه آلومینا 40٪ افزایش یافته است

 

ملک محدوده پارامتر استانداردهای آزمون
درجه خلوص درجه الکترونیکی: 99.95٪ -99.999٪ دستگاه ICP-MS GB/T 26008
ساختار کریستالی فاز ارتورومبیک/فاز آمورف (اختیاری) XRD ISO 20203
توزیع اندازه ذرات D50: 0.5-10μm (نانومقیاس قابل تنظیم است) SEM ISO 13322-1
خواص دی الکتریک قدرت میدان شکست> 600 کیلوولت بر سانتی‌متر کمیسیون مستقل انتخابات ۶۰۲۷۰
پایداری حرارتی نقطه ذوب: 1872℃±10℃ DSC ISO 1135 7

 

امنیت و انطباق

طبقه‌بندی حمل و نقل: غیر خطرناک (شماره سازمان ملل قابل اجرا نیست)

شرایط نگهداری: محیط خشک و در دمای اتاق، از تماس با اسید قوی خودداری شود

صدور گواهینامه زیست محیطی:

- مطابق با دستورالعمل RoHS 3.0 (2015/863/EU)

- موادی که در REACH SVHC ذکر نشده‌اند

- رعایت سیاست مواد معدنی مربوط به منازعات (CMRT 6.0)

 

کنترل کیفیت

۱. استانداردهای درجه‌بندی:

- درجه نوری: ISO 10110-7 درجه حاشیه A

- درجه الکترونیکی: کنترل ناخالصی فلزی SEMI C8.1

۲. ضمانت تست:

- ارائه گزارش آنالیز عنصری XRF برای هر بچ

- تشخیص مساحت سطح BET (قابل تنظیم 0.5-10 متر مربع بر گرم)

- غربالگری رادیونوکلئید (U/Th < 1 ppb)

---

موارد کاربرد معمول

- یک تولیدکننده فیلتر ایستگاه پایه 5G از Ta₂O₅ با درجه الکترونیکی استفاده می‌کند و تلفات ورودی را به 1.2 دسی‌بل (باند 3.5 گیگاهرتز) کاهش می‌دهد.

- High-end camera lens manufacturers use optical-grade products to achieve a refractive index of nd=2.15@587.6nm

 

نکاتی که باید به آنها توجه کرد

• جابجایی پودر نانو باید مطابق با استانداردهای حفاظت تنفسی ISO 13137 باشد.

• بوته‌های کوراندوم برای کاربردهای زینترینگ در دمای بالا توصیه می‌شوند.

• پوشش‌های نوری نیاز به کنترل سرعت رسوب‌گذاری تا کمتر از 0.5 نانومتر بر ثانیه دارند.

---

این توضیحات بر اساس ویژگی‌های کلی پنتوکسید تانتالم است. پارامترهای خاص تابع COA (گزارش بازرسی کیفیت) هستند.

راه‌حل‌های فنی سفارشی را می‌توان برای اشکال خاص (نانوپودرها/تارگت‌های اسپاترینگ/زیرلایه‌های تک کریستالی) ارائه داد.

 

 


پیام خود را اینجا بنویسید و برای ما ارسال کنید