benear1

Tantal(V)oxid (Ta2O5 oder Tantalpentoxid) Rengheet 99,99% Cas 1314-61-0

Kuerz Beschreiwung:

Tantal(V)oxid (Ta2O5 oder Tantalpentoxid)ass eng wäiss, stabil fest Verbindung. De Pulver gëtt produzéiert andeems eng Tantal-halteg Säureléisung ausgefällt gëtt, de Nidderschlag gefiltert an de Filterkuch kalzinéiert gëtt. E gëtt dacks op déi gewënscht Partikelgréisst gemuel fir verschidden Uwendungsufuerderungen ze erfëllen.


Produktdetailer

Tantalpentoxid
Synonyme: Tantal(V)oxid, Ditantalumpentoxid
CAS-Nummer 1314-61-0
Chemesch Formel Ta2O5
Molare Mass 441,893 g/mol
Ausgesinn wäisst, geruchslos Pulver
Dicht β-Ta2O5 = 8,18 g/cm3, α-Ta2O5 = 8,37 g/cm3
Schmelzpunkt 1.872 °C (3.402 °F; 2.145 K)
Léislechkeet a Waasser vernoléissegbar
Léislechkeet onléislech an organesche Léisungsmëttelen a mat de meeschte Mineralsäuren, reagéiert mat HF
Bandlück 3,8–5,3 eV
Magnéitesch Suszeptibilität (χ) −32,0 × 10−6 cm3/mol
Breechungsindex (nD) 2.275

 

Chemesch Spezifikatioun vun Tantalpentoxid mat héijer Rengheet

Symbol Ta2O5(%min) Auslännesch Mat.≤ppm LOI Gréisst
Nb Fe Si Ti Ni Cr Al Mn Cu W Mo Pb Sn Al+Ka+Li K Na F
UMTO4N 99,99 30 5 10 3 3 3 5 3 3 5 5 3 3 - 2 2 50 0,20% 0,5-2µm
UMTO3N 99,9 3 4 4 1 4 1 2 10 4 3 3 2 2 5 - - 50 0,20% 0,5-2µm

Verpackung: An Eisentrommelen mat bannenzegem versiegeltem Duebelplastik.

 

Fir wat ginn Tantaloxiden an Tantalpentoxiden benotzt?

Kär Uwendungsberäicher

1. Elektronesch funktionell Materialien

1. Substrat fir Uewerflächenakustesch Wellen (SAW):

- De Kärrohmaterial fir d'Synthese vu Lithiumtantalat (LiTaO₃) Eenzelkristaller, déi benotzt gi fir Radiofrequenzfilter fir mobil Kommunikatiounsapparater ze produzéieren

- Terminalapplikatiounen: Smartphones/Tableten (5G Band Ënnerstëtzung), GPS Moduler, IoT Smart Meter

- Leeschtungsvirdeel: Frequenzstabilitéit ±0,5ppm (-40℃ bis +85℃)

2. Halbleitervirleefer:

- Tantalkarbid (TaC) synthetescht Rohmaterial: fir superhaart Werkzeugbeschichtung (Mikrohärte ≥ 2200 HV)

- Sputtering-Zil: Oflagerung vun der dielektrescher Schicht am DRAM-Kondensator (dielektresch Konstant εr = 25-30)

 

2. Optesch Technologie

1. High-End optescht System:

- Breechungsindexverstärker: Erhéicht de Breechungsindex vum optesche Glas op nd=1,75-2,20 (400-700nm)

- Beschichtung mat gerénger Absorptioun: Virbereedung vun engem Antireflexfilm (Extinktiounskoeffizient k<0,001@550nm)

2. Spezial Faserapplikatiounen:

- Dotiermëttel fir d'Faser-Bragg-Gitter: Verbesserung vun der Temperaturempfindlechkeet op 15pm/°C

- Infrarout-optesch Komponenten: Transmittanz am 3-5μm Mëttel-Infraroutband > 92%

 

3. Industriell Katalyse a Modifikatioun

1. Chemesch Katalyse:

- Olefin-Epoxidatiounskatalysator: Konversiounsquote > 95% (Festbettreaktor)

- Photokatalysator fir d'Waasserstoffproduktioun aus Waasser (Komposit mat CdS)

2. Materialmodifikatioun:

- Korrosiounsbeständeg Legierungsadditive: Verbesserung vun der Oxidatiounsbeständegkeet vu Legierungen op Nickelbasis bei 1100°C

- Keramikverstäerkungsphase: D'Brochzähheet vun Aluminiumoxid-baséierte Kompositmaterialien ass ëm 40% eropgaang.

 

Immobilie Parameterberäich Teststandarden
Rengheetsgrad Elektronesch Qualitéit: 99,95% -99,999% ICP-MS GB/T 26008
Kristallstruktur Orthorhombesch Phas/amorph Phas (optional) XRD ISO 20203
Verdeelung vun der Partikelgréisst D50: 0,5-10μm (Nanoskala kann personaliséiert ginn) SEM ISO 13322-1
Dielektresch Eegeschaften Duerchschlagfeldstäerkt > 600 kV/cm IEC 60270
Thermesch Stabilitéit Schmelzpunkt: 1872 ℃ ± 10 ℃ DSC ISO 1135 7

 

Sécherheet a Konformitéit

Transportklassifikatioun: NET GEFÉIERLECH (UN-Nummer net zoutreffend)

Lagerungsufuerderungen: dréchen Ëmfeld bei Raumtemperatur, Kontakt mat staarker Säure vermeiden

Ëmweltzertifizéierung:

- Entsprécht der RoHS 3.0 Direktiv (2015/863/EU)

- Substanzen, déi net ënner REACH SVHC opgezielt sinn

- Konformitéit mat der Politik zu Konfliktmineralien (CMRT 6.0)

 

Qualitéitskontroll

1. Notenstandarden:

- Optesch Qualitéit: ISO 10110-7 Fringe Grad A

- Elektronesch Qualitéit: SEMI C8.1 Metallverunreinigungskontroll

2. Testgarantie:

- Liwwert e Rapport iwwer d'Elementaranalyse vun XRF fir all Charge

- BET-Uewerflächenerkennung (0,5-10m²/g justierbar)

- Radionuklid-Screening (U/Th < 1 ppb)

---

Typesch Uwendungsfäll

- E Produzent vu 5G-Basisstatiounsfilteren benotzt Ta₂O₅ vun elektronescher Qualitéit, wat den Insertion Loss op 1,2dB (3,5GHz Band) reduzéiert.

- High-end camera lens manufacturers use optical-grade products to achieve a refractive index of nd=2.15@587.6nm

 

Saachen déi een opmierksam maache soll

• Den Ëmgang mat Nanopulver muss den ISO 13137 Atmungsschutznormen entspriechen

• Korund-Tichelcher gi fir Sinterapplikatioune bei héijen Temperaturen recommandéiert

• Optesch Beschichtunge mussen d'Oflagerungsquote op manner wéi 0,5 nm/s kontrolléieren

---

Dës Beschreiwung baséiert op den allgemenge Charakteristike vum Tantalpentoxid. Déi spezifesch Parameter ënnerleien dem COA (Qualitéitsinspektiounsbericht).

Fir speziell Formen (Nanopulver/Sputterziler/Eenkristallsubstrater) kënne personaliséiert technesch Léisunge geliwwert ginn.

 

 


Schreift Är Noriicht hei a schéckt se eis