טאַנטאַלום (V) אָקסייד (Ta2O5 אדער טאַנטאַלום פּענטאָקסייד) ריינקייט 99.99% קאַס 1314-61-0
| טאַנטאַלום פּענטאָקסייד | |
| סינאָנימען: | טאַנטאַלום (V) אַקסייד, דיטאַנטאַלום פּענטאַקסייד |
| CAS נומער | 1314-61-0 |
| כעמישע פאָרמולע | Ta2O5 |
| מאָלאַר מאַסע | 441.893 ג/מאָל |
| אויסזען | ווייסע, שמעקלאָזע פּודער |
| געדיכטקייט | β-Ta2O5 = 8.18 ג/קמ³, α-Ta2O5 = 8.37 ג/קמ³ |
| שמעלץ־פונקט | 1,872 °C (3,402 °F; 2,145 K) |
| סאָלוביליטי אין וואַסער | נישטיק |
| סאָלוביליטי | נישט צעלאָזלעך אין אָרגאַנישע סאָלווענטן און רובֿ מינעראַל זויערן, רעאַגירט מיט HF |
| באַנד גאַפּ | 3.8–5.3 eV |
| מאַגנעטישע סאַסעפּטאַבילאַטי (χ) | −32.0×10−6 קוביק סענטימעטער/מאָל |
| רעפראַקטיווער אינדעקס (nD) | 2.275 |
הויך ריינקייט טאַנטאַלום פּענטאָקסידע כעמישער ספּעציפיקאַציע
| סימבאָל | Ta2O5(%מינוט) | פרעמדע מאַט.≤ppm | לאָי | גרייס | ||||||||||||||||
| Nb | Fe | Si | Ti | Ni | Cr | Al | Mn | Cu | W | Mo | Pb | Sn | אַל+קאַ+לי | K | Na | F | ||||
| UMTO4N | 99.99 | 30 | 5 | 10 | 3 | 3 | 3 | 5 | 3 | 3 | 5 | 5 | 3 | 3 | - | 2 | 2 | 50 | 0.20% | 0.5-2µm |
| UMTO3N | 99.9 | 3 | 4 | 4 | 1 | 4 | 1 | 2 | 10 | 4 | 3 | 3 | 2 | 2 | 5 | - | - | 50 | 0.20% | 0.5-2µm |
פּאַקינג: אין אייַזן טראָמען מיט ינערלעך פארזיגלט טאָפּל פּלאַסטיק.
וואָס ווערט טאַנטאַלום אָקסיידן און טאַנטאַלום פּענטאָקסיידן געניצט פֿאַר?
קאָר אַפּליקאַציע געביטן
1. עלעקטראָנישע פונקציאָנעלע מאַטעריאַלן
1. ייבערפלאַך אַקוסטישע כוואַליע (SAW) פילטער סאַבסטראַט:
- דער הויפּט רוי מאַטעריאַל פֿאַר סינטעזירן ליטיום טאַנטאַלאַט (LiTaO₃) איין קריסטאַלן, וואָס ווערט גענוצט צו פּראָדוצירן ראַדיאָ-פרעקווענץ פילטערס פֿאַר מאָבילע קאָמוניקאַציע דעוויסעס.
- טערמינאַל אַפּליקאַציעס: סמאַרטפאָונז/טאַבלעטן (5G באַנד שטיצע), GPS מאָדולן, IoT קלוגע מעטערס
- פאָרשטעלונג מייַלע: אָפטקייַט סטאַביליטעט ±0.5ppm (-40℃ צו +85℃)
2. האַלב-קאָנדוקטאָר פאָרגייער:
- טאַנטאַלום קאַרבייד (TaC) סינטעטיש רוי מאַטעריאַל: פֿאַר סופּערהאַרט געצייַג קאָוטינג (מיקראָהאַרדנעס ≥ 2200 HV)
- שפּאַטערינג ציל: DRAM קאַפּאַסיטאָר דיעלעקטריק שיכט דעפּאַזישאַן (דיעלעקטריק קאָנסטאַנט εr = 25-30)
2. אָפּטישע טעכנאָלאָגיע
1. הויך-ענד אָפּטיש סיסטעם:
- רעפראַקטיוו אינדעקס פֿאַרבעסערער: פֿאַרגרעסערן דעם רעפראַקטיוו אינדעקס פֿון אָפּטישן גלאָז צו nd=1.75-2.20 (400-700nm)
- נידעריק אַבזאָרפּשאַן קאָוטינג: צוגרייטונג פון אַנטי-רעפלעקשאַן פילם (עקסטינקשאַן קאָואַפישאַנט k<0.001@550nm)
2. ספּעציעלע פיברע אַפּליקאַציעס:
- פיבער בראַג גראַטינג דאָפּאַנץ: פֿאַרבעסערן טעמפּעראַטור סענסיטיוויטי צו 15pm/°C
- אינפֿראַרויט אָפּטישע קאָמפּאָנענטן: טראַנסמיטאַנס אין די 3-5μm מיטל-אינפֿראַרויט באַנד > 92%
3. אינדוסטריעלע קאַטאַליז און מאָדיפיקאַציע
1. כעמישע קאַטאַליז:
- אָלעפין עפּאָקסידאַציע קאַטאַליסט: קאָנווערזשאַן קורס > 95% (פיקסט בעט רעאַקטאָר)
- פאָטאָקאַטאַליסט פֿאַר וואַסערשטאָף פּראָדוקציע פֿון וואַסער (קאָמפּאָזיט מיט CdS)
2. מאַטעריאַל מאָדיפיקאַציע:
- קעראָוזשאַן-קעגנשטעליק צומיש אַדאַטיווז: פֿאַרבעסערן די אַקסאַדיישאַן קעגנשטעל פון ניקאַל-באַזירט צומיש ביי 1100°C
- קעראַמישע פארשטארקונג פאַזע: בראָך טאַפנאַס פון אַלומינאַ-באַזירט קאַמפּאַזאַץ געוואקסן מיט 40%
| פאַרמאָג | פּאַראַמעטער קייט | טעסט סטאַנדאַרדן |
| ריינקייט גראַד | עלעקטראָניש גראַד: 99.95%-99.999% | ICP-MS GB/T 26008 |
| קריסטאַל סטרוקטור | אָרטאָרהאָמביקע פאַזע/אַמאָרפֿע פאַזע (אויב איר ווילט) | XRD ISO 20203 |
| פּאַרטיקל גרייס פאַרשפּרייטונג | ד50: 0.5-10μm (נאַנאָסקאַלע קען זיין קאַסטאַמייזד) | SEM ISO 13322-1 |
| דיעלעקטרישע אייגנשאפטן | ברייקדאַון פעלד שטאַרקייט>600kV/cm | IEC 60270 |
| טערמישע פעסטקייט | שמעלץ פונקט: 1872 ℃ ± 10 ℃ | די-עס-סי יסאָ 1135 7 |
זיכערהייט און קאָנפאָרמאַנס
טראַנספּאָרט קלאַסיפֿיקאַציע: נישט געפֿערלעך (UN נומער נישט אָנווענדלעך)
סטאָרידזש רעקווייערמענץ: טרוקן סביבה ביי צימער טעמפּעראַטור, ויסמיידן קאָנטאַקט מיט שטאַרק זויער
ענווייראָנמענטאַל סערטיפיקאַציע:
- קאָמפּאַטיבל מיט RoHS 3.0 דירעקטיוו (2015/863/EU)
- סובסטאַנצן נישט ליסטעד אונטער REACH SVHC
- איינהאלטונג מיט די קאנפליקט מינעראלן פאליסי (CMRT 6.0)
קוואַליטעט קאָנטראָל
1. גראַד סטאַנדאַרדס:
- אָפּטיש גראַד: ISO 10110-7 פראַנדזש גראַד A
- עלעקטראָניש גראַד: SEMI C8.1 מעטאַל פֿאַרפּעסטיקונג קאָנטראָל
2. טעסטינג גאראנטיע:
- צושטעלן XRF עלעמענטאר אנאליז באריכט פאר יעדן באַטש
- BET ייבערפלאַך שטח דעטעקציע (0.5-10 מ²/ג אַדזשאַסטאַבאַל)
- ראַדיאָנוקליד סקרינינג (U/Th < 1 ppb)
---
טיפּישע אַפּליקאַציע קאַסעס
- א 5G באַזע סטאַנציע פילטער פאַבריקאַנט ניצט עלעקטראָניש-גראַד Ta₂O₅, וואָס רעדוצירט ינסערשאַן אָנווער צו 1.2dB (3.5GHz באַנד)
- High-end camera lens manufacturers use optical-grade products to achieve a refractive index of nd=2.15@587.6nm
זאכן צו באַמערקן
• נאַנאָ פּודער האַנדלינג מוז נאָכקומען מיט ISO 13137 רעספּעראַטאָרישע שוץ סטאַנדאַרדן
• קאָרונדום קרוסיבלס זענען רעקאָמענדירט פֿאַר הויך טעמפּעראַטור סינטערינג אַפּלאַקיישאַנז
• אָפּטישע קאָוטינגז דאַרפֿן קאָנטראָלירן די דעפּאָזיציע קורס צו ווייניקער ווי 0.5 נאַנאָמעטער/סעק.
---
די באַשרייַבונג איז באַזירט אויף די אַלגעמיינע קעראַקטעריסטיקס פון טאַנטאַלום פּענטאָקסייד. די ספּעציפֿישע פּאַראַמעטערס זענען אונטערטעניק צו די COA (קוואַליטעט דורכקוק באַריכט).
קאַסטאַמייזד טעכנישע לייזונגען קענען צוגעשטעלט ווערן פֿאַר ספּעציעלע פֿאָרמען (נאַנאָפּודערס/ספּאַטערינג טאַרגאַץ/איינציק קריסטאַל סאַבסטראַטן).
פֿאַרבונדןפּראָדוקטן
-
טונגסטאַן (VI) אַקסייד פּאַודער (טאַנגסטאַן טריאַקסייד ...
-
הויך ריינקייט צעזיום נייטרייט אדער צעזיום נייטרייט (C...
-
קאָבאַלט פּודער בנימצא אין אַ ברייט קייט פון טיילן...
-
סטראָנטיום קאַרבאָנאַט פיין פּודער SrCO3 אַסיי 97% ...
-
הויך ריינקייט מאָליבדענום מעטאַל בויגן און פּודער ...
-
לאַנטאַנום(לאַ)אָקסייד