Vysoce čistý indium kovový ingot, obsah min. 99,9999 %
| Indium kov |
| Symbol prvku = In |
| Atomové číslo = 49 |
| ● Bod varu = 2080 ℃● Bod tání = 156,6 ℃ |
O kovu india
Existující množství v zemské kůře je 0,05 ppm a vzniká ze sulfidu zinečnatého; při metalurgii zinku se oddělí od popela, získá se kapalný iont india (3+) a elektrolýzou se z něj vytvoří vysoce čistá jednotlivá hmota. Vyskytuje se jako stříbrně bílý krystal. Je měkký a patří do čtvercové krystalové soustavy. Je stabilní na vzduchu a po zahřátí vytváří In2O3. Při pokojové teplotě může reagovat s fluorem a chloridem. Může se rozpouštět v kyselinách, ale ne ve vodě nebo alkalickém roztoku.
Specifikace vysoce kvalitního indiového ingotu
| Číslo položky, | Chemická složka | |||||||||||||||
| V ≥(%) | Zahraniční mat. ≤ ppm | |||||||||||||||
| Cu | Pb | Zn | Cd | Fe | Tl | Sn | As | Al | Mg | Si | S | Ag | Ni | Celkový | ||
| UMIG6N | 99,9999 | 1 | 1 | - | 0,5 | 1 | - | 3 | - | - | 1 | 1 | 1 | - | - | - |
| UMIG5N | 99,999 | 4 | 10 | 5 | 5 | 5 | 10 | 15 | 5 | 5 | 5 | 10 | 10 | 5 | 5 | - |
| UMIG4N | 99,993 | 5 | 10 | 15 | 15 | 7 | 10 | 15 | 5 | 5 | - | - | - | - | - | 70 |
| UMIG3N | 99,97 | 10 | 50 | 30 | 40 | 10 | 10 | 20 | 10 | 10 | - | - | - | - | - | 300 |
Balení: 500 ± 50 g/ingot, zapouzdřeno v polyethylenovém sáčku, vloženo do dřevěné krabice,
K čemu se používá indiový ingot?
Indiový ingot (v)- Aplikace a použití
Indiový ingot je všestranný, měkký a vysoce tvárný kov z období přechodu s výjimečnými vlastnostmi, včetně vynikající elektrické vodivosti, silné přilnavosti k různým substrátům a nízkého bodu tání. Díky těmto vlastnostem je klíčovým materiálem v moderních technologiích, od běžné spotřební elektroniky až po pokročilé energetické a výzkumné systémy. Náš vysoce čistý indiový ingot slouží jako základní surovina pro širokou škálu špičkových aplikací.
Hlavní aplikace a odvětví:
1. Elektronika a displeje (primární aplikace)
Největší uplatnění india nachází ve formě oxidu india a cínu (ITO), což je průhledný vodivý oxid.
* Transparentní vodivé vrstvy: Indium, naprašované z ITO terčů, je nezbytné pro vytváření transparentních vodivých vrstev v:
* Ploché displeje: LCD, OLED a dotykové obrazovky pro chytré telefony, tablety, televizory a monitory.
* Fotovoltaika: Tenkovrstvé solární články (například CIGS), kde slouží jako průhledná elektroda umožňující světlu dosáhnout aktivní vrstvy.
* Energeticky úsporná okna: Používají se v inteligentních oknech, která dokáží dynamicky řídit propustnost tepla a světla.
2. Pájení a legování
Nízký bod tání india a jeho schopnost smáčet mnoho povrchů ho činí neocenitelným při spojování a nanášení povlaků.
* Specializované pájky: Pájky na bázi india vytvářejí spolehlivé, nízkoteplotní spoje v tepelně citlivých součástkách, což je klíčové pro:
* Osazování elektroniky: Zejména v procesech pájení po krocích a pro balení citlivých zařízení.
* Tepelný management: Připevnění chladičů k citlivým čipům ve vysoce výkonných počítačích.
* Ochranné povlaky: Používají se jako tenkovrstvý povlak na ložiskách a dalších pohyblivých plochách pro zajištění vynikajícího mazání, snížení tření a zvýšení odolnosti proti korozi.
* Zubní slitiny: Slitiny s jinými kovy pro vytvoření pevných, odolných a biokompatibilních zubních amalgámů a výplní.
3. Polovodičový a pokročilý výzkum
Ultračisté vlastnosti india se využívají v nejmodernějších technologických oblastech.
* Složené polovodiče: Jako klíčový prvek skupiny III se používá v metaloorganické epitaxi z plynné fáze (MOVPE) k pěstování vysoce výkonných polovodičů, jako je fosfid india (InP) a arsenid india a galia (InGaAs). Ty jsou zásadní pro:
* Vysokofrekvenční tranzistory
* Optoelektronika: Lasery a fotodetektory pro komunikaci optickými vlákny.
* Výzkum a vývoj: Slouží jako prekurzorový materiál v akademických a průmyslových laboratořích pro vývoj nových polovodičových součástek a nanomateriálů.
4. Jaderná technologie
* Řídicí tyče: Indium, legované stříbrem a kadmiem (slitina Ag-In-Cd), je klíčovou součástí řídicích tyčí jaderných reaktorů, kde jeho vysoký průřez pro záchyt neutronů pomáhá přesně regulovat štěpnou reakci jader.
---
Klíčové vlastnosti a výhody:
* Vysoká čistota: Zajišťuje optimální výkon v kritických aplikacích, jako je výroba polovodičů a naprašování ITO.
* Výjimečná tažnost: Lze jej snadno válcovat, extrudovat a tvarovat do různých tvarů, včetně drátu a fólie.
* Vynikající smáčivost a přilnavost: Vytváří silné vazby se sklem, kovy a keramikou, díky čemuž je ideální pro pájení a nanášení povrchových úprav.
* Kritický faktor: Důležitý materiál pro řadu rychle rostoucích technologií v odvětvích displejů, energetiky a telekomunikací.
Prohlášení: Uvedené informace slouží pouze pro popisné účely. Uživatelé jsou zodpovědní za ověření vhodnosti indiového ingotu pro jejich konkrétní aplikaci a za dodržování všech příslušných předpisů týkajících se zdraví, bezpečnosti a životního prostředí během jeho manipulace a používání.
