Теллурийн давхар ислийн материал, ялангуяа өндөр цэвэршилттэй нано түвшний материалуудТеллурийн исэл, салбарын өргөн хүрээний анхаарлыг улам бүр татаж байна. Тэгэхээр нано теллурийн оксидын шинж чанар юу вэ, мөн бэлтгэх тодорхой арга нь юу вэ? Судалгаа, хөгжүүлэлтийн багУрбанМайнс Технологийн ХХКсалбарын лавлагаанд зориулж энэ нийтлэлийг нэгтгэн дүгнэлээ.
Орчин үеийн материалын шинжлэх ухааны салбарт теллурын давхар исэл нь маш сайн акусто-оптик материалын хувьд өндөр хугарлын илтгэгч, том Раманы тархалтын шилжилт, сайн шугаман бус оптик, сайн цахилгаан дамжуулах чадвар, маш сайн акустоэлектрик шинж чанар, хэт ягаан туяа болон харагдах гэрлийн өндөр дотоод дамжуулалт гэх мэт шинж чанаруудтай. Теллурын давхар ислийг оптик өсгөгч, акусто-оптик дефлектор, шүүлтүүр, оптик хувиргалт гэх мэтт өргөн ашигладаг.
Наноматериалууд нь гадаргуугийн том талбай, жижиг бөөмсийн хэмжээтэй байх шинж чанартай тул гадаргуугийн эффект, квант эффект болон хэмжээний эффект үүсгэдэг. Тиймээс теллурийн давхар ислийн наноматериалын талаар гүнзгий судалгаа хийх нь маш чухал юм.
Наноматериалууд нь гадаргуугийн том талбай, жижиг бөөмсийн хэмжээтэй байх шинж чанартай тул гадаргуугийн нөлөө, квант нөлөө, хэмжээний нөлөөллийг бий болгодог. Тиймээс теллурийн давхар ислийн наноматериалын талаар гүнзгий судалгаа хийх нь маш чухал юм. Одоогийн байдлаар бэлтгэх аргуудтеллурын давхар исэлНаноматериалуудыг голчлон дулааны ууршуулах арга болон золь арга гэж хуваадаг. Дулааны ууршуулах арга нь өндөр температурын нөхцөлд элементийн теллурийн хатуу нунтагыг шууд ууршуулж шинэ исэл гаргаж авах үйл явц юм. Сул талууд нь урвалд өндөр температур шаардлагатай, тоног төхөөрөмж үнэтэй, хортой уур үүсдэг. Олон теллурийн давхар ислийн наноматериалыг ууршуулах аргаар бэлтгэсэн. Те элементийн хэсгүүдийг агаарын богино долгионы плазмын дөл ашиглан ууршуулж, 100-25 нм хэмжээтэй бөөмийн хэмжээтэй бөмбөрцөг хэлбэртэй теллурийн давхар ислийн нано хэсгүүдийг бэлтгэдэг. Парк нар Те элементийн нунтагыг битүүмжлээгүй кварц хоолойд 500°C-д ууршуулж, SiO2 нано савааны гадаргуу дээрх Ag хальсыг өөрчилж, 50-100 нм диаметртэй Ag функциональжуулсан теллурийн давхар ислийн нано савааг бэлтгэж, этанолын хийн концентрацийг илрүүлэхэд ашигласан. Золь арга нь теллурийн урьдал нэгдлүүдийн (ихэвчлэн теллурит ба теллурийн изопропоксид) амархан гидролизд орох шинж чанарыг ашигладаг. Шингэн фазын нөхцөлд хүчиллэг катализатор нэмсний дараа тогтвортой тунгалаг давсны систем үүсдэг. Шүүлтүүр хийж хатаасаны дараа теллурийн давхар ислийн нано хатуу нунтаг гарган авдаг. Энэ арга нь ажиллахад хялбар, байгаль орчинд ээлтэй бөгөөд урвалд өндөр температур шаарддаггүй. Цууны хүчил ба галлийн хүчлийн сул хүчлийн шинж чанарыг ашиглан Na2TeO3-ийг катализжуулж, гидролизжүүлж, теллурийн давхар ислийн нано хэсгүүдийн давсыг бэлтгэж, 200-300 нм хэмжээтэй янз бүрийн талст хэлбэртэй теллурийн давхар ислийн нано хэсгүүдийг гарган авна.








