טעללוריום דייאַקסייד מאַטעריאַלן, ספּעציעל הויך-ריינקייט נאַנאָ-לעוועלטעללוריום אָקסייד, האבן מער און מער צוגעצויגן ברייטע אויפמערקזאמקייט אין דער אינדוסטריע. נו, וואָס זענען די כאַראַקטעריסטיקס פון נאַנאָ טעללוריום אָקסייד, און וואָס איז די ספּעציפֿישע צוגרייטונג מעטאָדע? די פאָרשונג און אַנטוויקלונג מאַנשאַפֿט פוןאורבאַןמיינס טעק קאָו., לטד.האט צוזאַמענגעפאַסט דעם אַרטיקל פֿאַר דער רעפֿערענץ פֿון דער אינדוסטריע.
אין דעם פעלד פון היינטיקער מאַטעריאַל וויסנשאַפֿט, טעלוריום דייאַקסייד, ווי אַן אויסגעצייכנט אַקוסטאָ-אָפּטיש מאַטעריאַל, האט די קעראַקטעריסטיקס פון הויך רעפראַקטיוו אינדעקס, גרויס ראַמאַן סקאַטערינג יבערגאַנג, גוטע ניט-לינעאַר אָפּטיק, גוטע עלעקטרישע קאַנדאַקטיוויטי, אויסגעצייכנטע אַקוסטאָ-עלעקטרישע אייגנשאַפטן, הויך אינערלעכע טראַנסמיטאַנס פון אַלטראַווייאַליט און זעבאר ליכט, עטק. טעלוריום דייאַקסייד איז וויידלי געניצט אין אָפּטישע אַמפּליפייערז, אַקוסטאָ-אָפּטישע דעפלעקטאָרס, פילטערס, אָפּטישע קאַנווערזשאַן...
נאַנאָמאַטעריאַלן האָבן די כאַראַקטעריסטיקס פון גרויס ספּעציפיש ייבערפלאַך שטח און קליין פּאַרטיקל גרייס, וואָס קענען מאַכן עס פּראָדוצירן ייבערפלאַך יפעקס, קוואַנטום יפעקס און גרייס יפעקס. דעריבער, טיף פאָרשונג אויף טעלוריום דייאַקסייד נאַנאָמאַטעריאַלן איז זייער נייטיק.
נאַנאָמאַטעריאַלן האָבן די כאַראַקטעריסטיקס פון גרויס ספּעציפיש ייבערפלאַך שטח און קליין פּאַרטיקל גרייס, וואָס קען מאַכן עס פּראָדוצירן ייבערפלאַך יפעקץ, קוואַנטום יפעקץ און גרייס יפעקץ. דעריבער, טיף פאָרשונג אויף טעלוריום דייאַקסייד נאַנאָמאַטעריאַלן איז זייער נייטיק. איצט, די מעטאָדן פֿאַר צוגרייטןטעלוריום דייאַקסיידנאנאמאטעריאלן ווערן הויפטזעכלעך צעטיילט אין טערמישע פארדאמפונג מעטאד און סאל מעטאד. די טערמישע פארדאמפונג מעטאד איז דער פראצעס פון דירעקט פארדאמפן עלעמענטארן טעלוריום פעסטן פודער אונטער הויכע טעמפעראטור באדינגונגען צו באקומען א נייעם אקסייד. די חסרונות זענען אז די רעאקציע פארלאנגט הויכע טעמפעראטור, די עקוויפמענט איז טייער, און עס ווערן געשאפן טאקסישע פארע. אסאך טעלוריום דיאקסייד נאנאמאטעריאלן זענען צוגעגרייט געווארן דורך פארדאמפונג. די טע עלעמענטארע פארטיקלען ווערן פארדאמפט דורך ניצן א לופט מייקראכוועלע פלאזמע פלאם צו צוגרייטן ספערישע טעלוריום דיאקסייד נאנאפארטיקלען מיט א פארטיקל גרייס פארטיילונג פון 100-25 נ"מ. פארק און אנדערע האבן פארדאמפט טע עלעמענטארן פודער אין אן אומגעזיגלטן קוואַרץ רער ביי 500°C, מאדיפיצירט דעם Ag פילם אויף דער ייבערפלאך פון די SiO2 נאנאשטעקנס, צוגעגרייט Ag פונקציאנאליזירטע טעלוריום דיאקסייד נאנאשטעקנס מיט א דיאמעטער פון 50-100 נ"מ, און זיי גענוצט צו דעטעקטירן די קאנצענטראציע פון עטאנאל גאז. די סאל מעטאד ניצט די אייגנשאפט פון טעלוריום פארגייער (געווענליך טעלוריט און טעלוריום איזאפראפאקסייד) צו זיין לייכט כיידראליזירט. א סטאַבילע טראַנספּאַרענטע סאָל סיסטעם ווערט געשאפן נאָך צולייגן אַ זויער קאַטאַליסט אונטער פליסיקע פאַזע באדינגונגען. נאָך פילטראַציע און טריקעניש, ווערט באַקומען טעלוריום דייאַקסייד נאַנאָ-סאָליד פּודער. די מעטאָדע איז פּשוט צו אַרבעטן, סביבה-פרייַנדלעך, און די רעאַקציע דאַרף נישט קיין הויכע טעמפּעראַטור. ניצן די שוואַכע זויער אייגנשאַפטן פון עסיק זויער און גאַליק זויער צו קאַטאַליזירן און הידראָליזירן Na2TeO3 צו צוגרייטן טעלוריום דייאַקסייד נאַנאָפּאַרטיקל סאָל, און באַקומען טעלוריום דייאַקסייד נאַנאָפּאַרטיקלען אין פאַרשידענע קריסטאַל פאָרמען, מיט פּאַרטיקל סיזעס פון 200-300 נם.
