ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ವಸ್ತುಗಳು, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ನ್ಯಾನೊ-ಮಟ್ಟದಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್, ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚು ಹೆಚ್ಚು ವ್ಯಾಪಕ ಗಮನ ಸೆಳೆದಿವೆ. ಹಾಗಾದರೆ ನ್ಯಾನೊ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಯಾವುವು ಮತ್ತು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ತಯಾರಿ ವಿಧಾನ ಯಾವುದು? ನ ಆರ್ & ಡಿ ತಂಡಅರ್ಬನ್ಮೈನ್ಸ್ ಟೆಕ್ ಕಂ., ಲಿಮಿಟೆಡ್.ಉದ್ಯಮದ ಉಲ್ಲೇಖಕ್ಕಾಗಿ ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಸಂಕ್ಷೇಪಿಸಿದ್ದಾರೆ.
ಸಮಕಾಲೀನ ವಸ್ತು ವಿಜ್ಞಾನ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ, ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್, ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಅಕೌಸ್ಟೋ-ಆಪ್ಟಿಕ್ ವಸ್ತುವಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ವಕ್ರೀಭವನ ಸೂಚ್ಯಂಕ, ದೊಡ್ಡ ರಾಮನ್ ಸ್ಕ್ಯಾಟರಿಂಗ್ ಪರಿವರ್ತನೆ, ಉತ್ತಮ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ದೃಗ್ವಿಜ್ಞಾನ, ಉತ್ತಮ ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆ, ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಅಕೌಸ್ಟೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ನೇರಳಾತೀತ ಮತ್ತು ಗೋಚರ ಬೆಳಕಿನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಆಂತರಿಕ ಪ್ರಸರಣ ಇತ್ಯಾದಿಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಆಂಪ್ಲಿಫೈಯರ್ಗಳು, ಅಕೌಸ್ಟೋ-ಆಪ್ಟಿಕ್ ಡಿಫ್ಲೆಕ್ಟರ್ಗಳು, ಫಿಲ್ಟರ್ಗಳು, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪರಿವರ್ತನೆಯಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ...
ನ್ಯಾನೊಮೆಟೀರಿಯಲ್ಗಳು ದೊಡ್ಡ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣ ಮತ್ತು ಸಣ್ಣ ಕಣ ಗಾತ್ರದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದು, ಇದು ಮೇಲ್ಮೈ ಪರಿಣಾಮಗಳು, ಕ್ವಾಂಟಮ್ ಪರಿಣಾಮಗಳು ಮತ್ತು ಗಾತ್ರದ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಮೆಟೀರಿಯಲ್ಗಳ ಕುರಿತು ಆಳವಾದ ಸಂಶೋಧನೆ ಬಹಳ ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ.
ನ್ಯಾನೊಮೆಟೀರಿಯಲ್ಗಳು ದೊಡ್ಡ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣ ಮತ್ತು ಸಣ್ಣ ಕಣ ಗಾತ್ರದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಇದು ಮೇಲ್ಮೈ ಪರಿಣಾಮಗಳು, ಕ್ವಾಂಟಮ್ ಪರಿಣಾಮಗಳು ಮತ್ತು ಗಾತ್ರದ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಮೆಟೀರಿಯಲ್ಗಳ ಕುರಿತು ಆಳವಾದ ಸಂಶೋಧನೆ ಬಹಳ ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ. ಪ್ರಸ್ತುತ,ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ನ್ಯಾನೊಮೆಟೀರಿಯಲ್ಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಉಷ್ಣ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಸೋಲ್ ವಿಧಾನ ಎಂದು ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ. ಉಷ್ಣ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ವಿಧಾನವು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಧಾತುರೂಪದ ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಘನ ಪುಡಿಯನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಆವಿಯಾಗಿಸಿ ಹೊಸ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಪಡೆಯುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ. ಅನಾನುಕೂಲಗಳೆಂದರೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ, ಉಪಕರಣಗಳು ದುಬಾರಿಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ವಿಷಕಾರಿ ಆವಿಗಳು ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುತ್ತವೆ. ಅನೇಕ ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಮೆಟೀರಿಯಲ್ಗಳನ್ನು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. 100-25nm ಕಣದ ಗಾತ್ರದ ವಿತರಣೆಯೊಂದಿಗೆ ಗೋಳಾಕಾರದ ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಗಾಳಿಯ ಮೈಕ್ರೋವೇವ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಜ್ವಾಲೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು Te ಧಾತುರೂಪದ ಕಣಗಳನ್ನು ಆವಿಯಾಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಪಾರ್ಕ್ ಮತ್ತು ಇತರರು 500°C ನಲ್ಲಿ ಸೀಲ್ ಮಾಡದ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಕೊಳವೆಯಲ್ಲಿ ಆವಿಯಾದ Te ಧಾತುರೂಪದ ಪುಡಿ, SiO2 ನ್ಯಾನೊರಾಡ್ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ Ag ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದರು, 50-100nm ವ್ಯಾಸವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ Ag ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕಗೊಳಿಸಿದ ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊರಾಡ್ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಿದರು ಮತ್ತು ಎಥೆನಾಲ್ ಅನಿಲದ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಪತ್ತೆಹಚ್ಚಲು ಅವುಗಳನ್ನು ಬಳಸಿದರು. ಸೋಲ್ ವಿಧಾನವು ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಪೂರ್ವಗಾಮಿಗಳ (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಟೆಲ್ಯುರೈಟ್ ಮತ್ತು ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಐಸೊಪ್ರೊಪಾಕ್ಸೈಡ್) ಆಸ್ತಿಯನ್ನು ಸುಲಭವಾಗಿ ಜಲವಿಚ್ಛೇದನ ಮಾಡಲು ಬಳಸುತ್ತದೆ. ದ್ರವ ಹಂತದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಆಮ್ಲ ವೇಗವರ್ಧಕವನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ ಸ್ಥಿರವಾದ ಪಾರದರ್ಶಕ ಸೋಲ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಶೋಧನೆ ಮತ್ತು ಒಣಗಿದ ನಂತರ, ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊ-ಘನ ಪುಡಿಯನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ವಿಧಾನವು ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸಲು ಸರಳವಾಗಿದೆ, ಪರಿಸರ ಸ್ನೇಹಿಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಅಗತ್ಯವಿರುವುದಿಲ್ಲ. ಅಸಿಟಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಗ್ಯಾಲಿಕ್ ಆಮ್ಲದ ದುರ್ಬಲ ಆಮ್ಲ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್ ಸೋಲ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು Na2TeO3 ಅನ್ನು ವೇಗವರ್ಧಿಸಲು ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೊಲೈಜ್ ಮಾಡಿ ಮತ್ತು 200-300nm ವರೆಗಿನ ಕಣಗಳ ಗಾತ್ರಗಳೊಂದಿಗೆ ವಿವಿಧ ಸ್ಫಟಿಕ ರೂಪಗಳಲ್ಲಿ ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್ಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಿರಿ.
