ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડ સામગ્રી, ખાસ કરીને ઉચ્ચ-શુદ્ધતા નેનો-સ્તરટેલુરિયમ ઓક્સાઇડ, ઉદ્યોગમાં વધુને વધુ વ્યાપક ધ્યાન આકર્ષિત કરી રહ્યા છે. તો નેનો ટેલુરિયમ ઓક્સાઇડની વિશેષતાઓ શું છે, અને તેની તૈયારીની ચોક્કસ પદ્ધતિ શું છે? ની R & D ટીમઅર્બનમાઇન્સ ટેક કંપની લિમિટેડઉદ્યોગના સંદર્ભ માટે આ લેખનો સારાંશ આપ્યો છે.
સમકાલીન ભૌતિક વિજ્ઞાનના ક્ષેત્રમાં, ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડ, એક ઉત્તમ એકોસ્ટો-ઓપ્ટિક સામગ્રી તરીકે, ઉચ્ચ રીફ્રેક્ટિવ ઇન્ડેક્સ, મોટા રમન સ્કેટરિંગ ટ્રાન્ઝિશન, સારા નોનલાઇનર ઓપ્ટિક્સ, સારી વિદ્યુત વાહકતા, ઉત્તમ એકોસ્ટોઇલેક્ટ્રિક ગુણધર્મો, અલ્ટ્રાવાયોલેટ અને દૃશ્યમાન પ્રકાશનું ઉચ્ચ આંતરિક ટ્રાન્સમિટન્સ વગેરેની લાક્ષણિકતાઓ ધરાવે છે. ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડનો વ્યાપકપણે ઓપ્ટિકલ એમ્પ્લીફાયર, એકોસ્ટો-ઓપ્ટિક ડિફ્લેક્ટર, ફિલ્ટર્સ, ઓપ્ટિકલ કન્વર્ઝન... માં ઉપયોગ થાય છે.
નેનોમટીરિયલ્સમાં મોટા ચોક્કસ સપાટી વિસ્તાર અને નાના કણોના કદની લાક્ષણિકતાઓ હોય છે, જેના કારણે તે સપાટીની અસરો, ક્વોન્ટમ અસરો અને કદની અસરો ઉત્પન્ન કરી શકે છે. તેથી, ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનોમટીરિયલ્સ પર ઊંડાણપૂર્વક સંશોધન ખૂબ જ જરૂરી છે.
નેનોમટીરિયલ્સમાં મોટા ચોક્કસ સપાટી વિસ્તાર અને નાના કણોના કદની લાક્ષણિકતાઓ હોય છે, જેના કારણે તે સપાટીની અસરો, ક્વોન્ટમ અસરો અને કદની અસરો ઉત્પન્ન કરી શકે છે. તેથી, ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનોમટીરિયલ્સ પર ઊંડાણપૂર્વક સંશોધન ખૂબ જ જરૂરી છે. હાલમાં, તૈયાર કરવાની પદ્ધતિઓટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડનેનોમટીરિયલ્સને મુખ્યત્વે થર્મલ બાષ્પીભવન પદ્ધતિ અને સોલ પદ્ધતિમાં વિભાજિત કરવામાં આવે છે. થર્મલ બાષ્પીભવન પદ્ધતિ એ ઉચ્ચ તાપમાનની સ્થિતિમાં એલિમેન્ટલ ટેલ્યુરિયમ સોલિડ પાવડરનું સીધું બાષ્પીભવન કરીને નવો ઓક્સાઇડ મેળવવાની પ્રક્રિયા છે. ગેરફાયદા એ છે કે પ્રતિક્રિયા માટે ઉચ્ચ તાપમાનની જરૂર પડે છે, સાધનો ખર્ચાળ છે, અને ઝેરી વરાળ ઉત્પન્ન થાય છે. ઘણા ટેલ્યુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનોમટીરિયલ્સ બાષ્પીભવન દ્વારા તૈયાર કરવામાં આવ્યા છે. 100-25nm ના કણ કદના વિતરણ સાથે ગોળાકાર ટેલ્યુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનોપાર્ટિકલ્સ તૈયાર કરવા માટે એર માઇક્રોવેવ પ્લાઝ્મા જ્યોતનો ઉપયોગ કરીને Te એલિમેન્ટલ કણોનું બાષ્પીભવન કરવામાં આવે છે. પાર્ક વગેરેએ 500°C પર સીલ વગરના ક્વાર્ટઝ ટ્યુબમાં Te એલિમેન્ટલ પાવડરનું બાષ્પીભવન કર્યું, SiO2 નેનોરોડ્સની સપાટી પર Ag ફિલ્મમાં ફેરફાર કર્યો, 50-100nm ના વ્યાસ સાથે Ag ફંક્શનલાઇઝ્ડ ટેલ્યુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનોરોડ્સ તૈયાર કર્યા, અને ઇથેનોલ ગેસની સાંદ્રતા શોધવા માટે તેનો ઉપયોગ કર્યો. સોલ પદ્ધતિ ટેલ્યુરિયમ પુરોગામી (સામાન્ય રીતે ટેલ્યુરાઇટ અને ટેલ્યુરિયમ આઇસોપ્રોપોક્સાઇડ) ના ગુણધર્મનો ઉપયોગ સરળતાથી હાઇડ્રોલાઇઝ્ડ કરવા માટે કરે છે. પ્રવાહી તબક્કાની સ્થિતિમાં એસિડ ઉત્પ્રેરક ઉમેર્યા પછી એક સ્થિર પારદર્શક સોલ સિસ્ટમ રચાય છે. ગાળણ અને સૂકવણી પછી, ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનો-સોલિડ પાવડર મેળવવામાં આવે છે. આ પદ્ધતિ ચલાવવા માટે સરળ, પર્યાવરણને અનુકૂળ છે, અને પ્રતિક્રિયા માટે ઉચ્ચ તાપમાનની જરૂર નથી. ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનોપાર્ટિકલ સોલ તૈયાર કરવા માટે Na2TeO3 ને ઉત્પ્રેરિત અને હાઇડ્રોલાઇઝ કરવા માટે એસિટિક એસિડ અને ગેલિક એસિડના નબળા એસિડ ગુણધર્મોનો ઉપયોગ કરો, અને 200-300nm સુધીના કણોના કદ સાથે વિવિધ સ્ફટિક સ્વરૂપોમાં ટેલુરિયમ ડાયોક્સાઇડ નેનોપાર્ટિકલ્સ મેળવો.
