Tha meud a’ mhargaidh agus comas cinneasachaidh tetrachloride hafnium ìre dealanach ann an Sìona a’ sìor leudachadh.
Ionad Rannsachaidh Gnìomhachais Smaoineachaidh Ùr Shìona air fhoillseachadh air 5 Màrt, 2026
Tha hafnium tetrachloride ìre dealanach a’ toirt iomradh air hafnium tetrachloride àrd-ghlanachd le purrachd de 99.95% no nas àirde.
tetrachloride hafnium, leis an fhoirmle mhóileciuilHfCl4agus cuideam moileciuil de 320.302, 's e pùdar criostalach geal a th' ann. Tha e creimneach agus faodaidh e na sùilean agus an craiceann a losgadh. Tha e cuideachd a' cur dragh air an t-siostam analach. Tha puing leaghaidh de 320°C aige agus faodaidh e sublimachadh. Tha e furasta a sgaoileadh ann an fuasglaidhean organach leithid methanol agus acetone. Bidh e ag ath-fhreagairt le uisge gus gasaichean puinnseanta a leigeil ma sgaoil. Tha e tais agus bidh e a’ lobhadh gu furasta nuair a bhios e fosgailte do èadhar agus feumar a stòradh ann an soitheach dùinte.
A rèir “Suirbhidh Shònraichte Margaidh Tetrachloride Hafnium Ìre Dealanach Sìona 2025 agus Aithisg Mholaidh ‘15mh Plana Còig Bliadhna’ Gnìomhachais” a chaidh fhoillseachadh leis an Ionad Rannsachaidh Gnìomhachas Smaoineachaidh Ùr, thathas a’ cleachdadh tetrachloride hafnium ìre dealanach sa mhòr-chuid ann an gnìomhachas nan leth-chonnsadairean mar stuth ro-ruithear leth-chonnsadairean. Tha e air a thasgadh agus air fhàs mar fhilmichean tana stèidhichte air hafnium a’ cleachdadh phròiseasan leithid tasgadh sreath atamach (ALD) agus tasgadh smùid ceimigeach (CVD). Tha cunbhalachd dielectric àrd aig filmichean tana stèidhichte air hafnium, gan dèanamh mar aon de na prìomh stuthan airson sreath dielectric geata a dhèanamh de transistors beaga, àrd-choileanaidh an ath ghinealaich. Faodaidh tetrachloride hafnium ìre dealanach coinneachadh ri gluasad leasachaidh phròiseasan saothrachaidh sliseagan a tha a’ crìonadh gu leantainneach, agus tha an raon margaidh aige an-còmhnaidh a’ leudachadh. A bharrachd air an sin, air sgàth a fheartan optigeach sàr-mhath, feartan meacanaigeach, agus seasmhachd teirmeach, faodar tetrachloride hafnium ìre dealanach a chleachdadh cuideachd ann an saothrachadh fhilmichean tana optigeach, LEDs àrd-chumhachd, innealan optoelectronic faisg air infridhearg, agus ceirmeag teòthachd ultra-àrd.
Tha càileachd teicneòlais glanaidh a’ toirt buaidh dhìreach air purrachd agus ìre tetrachloride hafnium ìre dealanach. Anns na bliadhnachan mu dheireadh, tha an àireamh de phaitinnean co-cheangailte ris a’ phròiseas glanaidh agus uidheamachd cinneasachaidh tetrachloride hafnium ìre dealanach ann an Sìona air a bhith a’ dol am meud, nam measg “inneal airson tetrachloride hafnium ìre dealanach ullachadh” agus “dòigh airson tetrachloride hafnium ìre dealanach a ghlanadh”.
Anns a’ Chèitean 2025, chaidh fios ùghdarrachaidh peutant a dhèanamh airson “dòigh-ghlanaidh airson tetrachloride hafnium ìre dealanach”. Fo dhìon gas neo-ghnìomhach, thèid tetrachloride hafnium amh a chur ann am bàta grian-chlach, agus tro phròiseasan leithid falmhachadh, teasachadh, glanadh fo-shruthadh, agus cruinneachadh fuarachaidh, gheibhear toraidhean tetrachloride hafnium ìre dealanach le purrachd 5N agus 6N.
Anns a’ mhargaidh Shìona,Teicneòlas UrbanMines.Bidh Earranta sa mhòr-chuid a’ rannsachadh, a’ leasachadh agus a’ solarachadh thoraidhean tetrachloride hafnium ìre dealanach le purrachd de ≥99.9%, 99.95%, agus ≥99.99%.
A rèir luchd-anailis gnìomhachais aig Newthink, tha comas cinneasachaidh hafnium tetrachloride ìre dealanach Shìona fhathast a’ leudachadh. Anns a’ Chèitean 2025, dh’fhoillsich Rianachd Dìon Àrainneachd Nàiseanta Shìona gum biodh an aithisg buaidh àrainneachdail airson “Pròiseact Ionad Pìleat Stuthan Ùra Semiconductor” air aontachadh agus air fhoillseachadh, agus tha cuid de phrìomh chompanaidhean sa ghnìomhachas cuideachd a’ leudachadh gu gnìomhach a-steach do mhargaidh hafnium tetrachloride ìre dealanach.